《ICP SF6 plasma simulation》.pdf

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2015-10-08 发布于河南
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ICP SF6 plasma simulation Modules ：PHM DSMCM Copyright 2002-2011 PEGASUS Software Inc., All rights reserved. 22 Purpose SF6 plasma behavior in a Si etching reactor is simulated. Then incident particle fluxes of F radical and ionic species and incident ion energy distributions to substrate are computed. Copyright 2002-2011 PEGASUS Software Inc., All rights reserved. 23 Computational model 1 KW, 13.56 MHz ICP coil 1 KW, 13.56 MHz Quartz Pressure 20 mTorr SF SF6 6 Sub. Outlet Outlet Electrode 150 W, 13.56 MHz Copyright 2002-2011 PEGASUS Software Inc., All rights reserved. 24 Reactions in gas-phase e+SF → e+SF Reactions on wall 6 6 e+SF → SF (-) 6 6 e+F → F(+)+2e e+SF → SF (+)+F+2e On all of the walls 6 5 e+F → e+F e+SF → SF (+)+2F+2e F → 1/2F 2 2 6 4 2 e+F → F(-)+F