《Molecular dynamics simulations of La2O3 thin films on SiO2》.pdf

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2015-11-12 发布于河南
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Availableonlineatwww．sciencedirect．com ·：三，ScienceDirect ．JeC v~ccw．elsevier．com／joumals／ journal—of-energy-chemistry／2095-4956 JournalofEnergyChemistry23(2Ol4)282—286 www．elsevier．com／locate／jngc MoleculardynamicssimulationsofLa203thinfilmsonSiO2 M ouFang ，。， StephenEKeltyb XiangmingHe，。，， a．InstituteofNuclearandNewEnergyTechnology,TsinghuaUniversity,Beijing100084,China； DepartmentofChemistryandBiochemistry,SetonHallUniversity,SouthOrange,NJ07079,USA； c．StateKeyLaboratoryofAutomotiveSafeytandEnergy,TsinghuaUniversiyt,Beijing100084，China， HuadongInstitute LithiumIonBattery,Zhangjiagang21560~Jiangsu，China [ManuscriptreceivedDecember2，2013；revisedJanuary14，2014] Abstract Classicalmoleculardynamicsisusedtoinvestigatetheequilibrium stateofthesurfaceregionandinterfaceofheteroepitaxialLa201thinfilms． Duetothelatticemismatch．heteroepitaxialthinfilmsraesubiecttovery1argestress．ForthisreasonhtebehaviorofLa203htinfilmsatSi02 interfacebecomesanimportna tconcem ．OurresultindicateshtatLa203canuniformlywetSiO，surface．Thepropertiesofthesimulatedfilms raeanalyzedandhtelackofanydiscerniblecrystallinephaseinepitaxialLa203onSi02indicatesthatthe1atticemismatchbetweenSi02and La203issuffi cientlylragetopreventtheformationofevenshort—rnageordersinLa，0 film ． Keywords moleculardynma icssimulati