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NCVM技術寶典 目 錄 1.NCVM介紹 2.NCVM鍍膜技術要點 3.NCVM烤漆技術要點 1-2.VM的基本原理 VM=Vacuum Metalization 主要原理是﹕在真空狀態下﹐將欲鍍物質(如金屬或合金 或其化合物)通過直接或間接加熱﹐使之熔解﹐然后蒸發(或直接由固體升華為氣體)﹐獲得足夠能量的原子或分子飛向并沉積在工件表面﹐沉積一定厚度的膜層。 NCVM= Non-conductive Vacuum Metalization 1-4.NCVM制程的基本流程 目前,我們採用是的真空蒸鍍,其基本流程如下: 1-6.NCVM的用途 應用在手機上﹕ 1.增強信號(外殼不導電) 2.外殼有金屬感 3.解決涂裝方面的高光問題 4.可代替塑膠件的水電鍍 二.NCVM鍍膜技術要點 基本內容: 1.NCVM鍍膜設備介紹 2.NCVM的量測方式與系統 3.VM Chamber的均勻性 4.VM Chamber的穩定性 5.非導與高溫高濕後產品變色的平衡 6.NCVM的開發 1.NCVM鍍膜設備介紹 VM設備主要組成系統: A)真空系統 B)加熱系統 C)動力系統 A)真空系統 真空系统是由真空泵、真空测量装置、真空阀门、连接导管以及捕集器、除尘器、真空继电器规头等元件，经过精心组装而成的。它能在人们所期望的时间内将被抽容器内的压力降低到所要求的真空度。 B)加熱系統 加熱系統的主要功能就是利用電阻絲加熱,將欲鍍物質加熱,達到蒸發(或直接由固體升華為氣體)﹐從而達到使原子或分子飛向并沉積在工件表面的目的. 對MOTO產品建立NCVM測試方法與系統的流程: 1. Agilent ENA 網絡分析儀: 2. Stud Scanner測試儀: 對NOKIA產品建立NCVM測試方法與系統的流程: 3.VM Chamber均勻性: 影響VM Chamber 均勻性的 主要因素有: 1.電極棒位置 2.耙材量 3.轉速 4.爐內氣流(大小方向)等 1.電極棒位置: 1.佈局整爐的電極棒 原則:電極棒組數不可大于10組 各組電極棒與最近上下兩個產品正面的距離相差不遠 2.用薄片進行驗證 原則:耙材量不宜過大(建議用L=1.0cm的耙材) 3.檢查整個薄片的鍍膜狀況,找出薄片異常點對應的電極棒,對電極棒進行微調(或上移或下移) 4.最上層和最底層電極棒用於解決產品頂部和底部的均勻性,一般為加長的電極棒 2.耙材量: 在調電極棒位置能將VM Chamber均勻性調好的情況下,一般不建議來通過調整耙材量來解決均勻性的問題. 一般來說,若爐內各層產品正面外觀一致,只是上層和底層產品的頂部或底部出現明顯薄鍍時,我們可以通過增加最上層和最下層的電極棒的耙材量(注意:增加耙材量的同時,要確保非導測試OK) 3.轉速: 當整爐產品出現相臨若干列同時出現薄鍍或非導測試NG時,可以試著改變轉速來解決此問題. 調轉速原則:產品在設定轉速下轉動一周所耗時間是耙材蒸發時間的整數倍. 4.爐內氣流(方向大小): 1.未通入惰性氣體的情況下,在抽真空時注意真空度的變化,若高真空時出現真空度忽高忽低的情況,且抽真空很難完成,則需檢查爐體各閥門和爐門的氣密性; 2.有通入惰性氣體的情況下,注意氣體流量計的數值變化,出現不穩定情況,需檢查供氣瓶及其管道,閥門等. 4.VM Chamber穩定性 VM Chamber穩定性影響因素主要有: 1.耙材的質量 2.耙材的重量 3.耙材的殘留 4.爐體的清潔 5.設備的運轉等 1.耙材的質量: 1.耙材的儲存條件: (1)溫度﹕ 5 ~ 35℃ (2)濕度﹕ 30 ~ 60%RH 2.耙材的儲存: (1)包裝方式﹕ 用前﹐用后必須用真空袋真空密封好 (2)使用順序﹕ 依先進先出之原則 3.耙材的純度: 各種耙材的純度在進料檢驗時必須優 于99.99% 2.耙材的重量: 1.耙材的重量管控 2.耙材的重量: 2.耙材預備流程: 3.耙材的殘留: 耙材殘留的主要原因: 耙材蒸發不完全,造成耙材殘留于鎢絲或滴落爐底 可以採取的措施: 1.檢查鎢絲鎢絲狀況(是否變形,固定螺絲的鬆緊度)