CMOS课件摘要.ppt

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1 MOSFET是怎样构成的? 2MOSFET的两个PN结和三个基本几何参数是什么? 3MOSFET的阈值电压是什么? 4MOSFET是怎样工作的? 5MOSFET的工作区分别是什么怎样界定的?相应的电压电流的关系是怎样的? 6MOSFET的二级效应分别是什么 7MOS电容有哪些? 8MOSFET的低频小信号模型的画法是什么? 第二章 MOS器件物理基础 一 基本概念 1MOSFET的结构 Metal-Oxide-Semiconductor Structure MOSFET的三个基本几何参数 Lmin、Wmin和tox 由工艺确定 Lmin:MOS工艺的特征尺寸(feature size) 决定MOSFET的速度和功耗等众多特性 L和W由设计者选定 通常选取L= Lmin,由此,设计者只需选取W W影响MOSFET的速度,决定电路驱动能力和功耗 一种载流子导电,是电压控制器件 MOS器件的源和漏端在几何上是等效的 MOS器件是四端器件 有NMOS、PMOS 两种器件 2MOSFET的符号 二 MOS 的伏安特性 1 阈值电压 2工作原理 3伏安特性 4二级效应 5器件模型 1阈值电压(Threshold Voltage Concept) 改变阈值电压的方法 往用离子注入技术改变沟道区的掺杂浓度,从而改变阈值电压。 对NMOS晶体管而言,注入P型杂质,将使阈值电压增加。反之,注入N型杂质将使阈值电压降低。 如果注入剂量足够大,可使器件沟道区反型变成N型的。这时,要在栅上加负电压,才能减少沟道中电子浓度,或消除沟道,使器件截止。在这种情况下,阈值电压变成负的电压,称其为夹断电压。 根据阈值电压不同,常把MOS器件分成增强型和耗尽型两种器件。 对于N沟MOS器件而言,将阈值电压VT>0的器件称为增强型器件,阈值电压VT<0的器件,称为耗尽型器件。 在CMOS电路里,全部采用增强型的NMOS和PMOS。 3 伏安特性 I/V characteristics MOS的伏安特性 非饱和时,在漏源电压Vds作用下,这些电荷Q将在τ时间内通过沟道,因此有电荷在沟道中的渡越时间 I/V特性的推导(1) I/V特性的推导(2) 三极管区的MOSFET(0 VDS VGS-VT) I/V特性的推导(3) 饱和区的MOSFET(VDS ≥ VGS-VT) NMOS管的大信号特性和工作区域以及电流公式 MOSFET的I/V特性 MOSFET的跨导gm MOS管饱和的判断条件 MOSFET开关(Switch Model of NMOS Transistor) MOS模拟开关 4 二级效应 体效应 沟道调制效应 亚阈值导电特性 体效应 VB0,将有更多的空穴被吸引到衬底电极,而同时留下大量的负电荷,随着VB的下降,Qd增加,VTH也增加即体效应。 MOS管的开启电压VT及体效应 MOS管的开启电压VT及体效应 MOS管体效应的Pspice仿真结果 MOSFET的沟道调制效应 MOSFET的沟道调制效应 MOS管沟道调制效应的Pspice仿真结果 MOS管跨导gm不同表示法比较 亚阈值导电特性 MOS管亚阈值导电特性的Pspice仿真结果 5器件模型 版图 6 NMOS 晶体管C-V 特性 减小MOS器件电容的版图结构 三 MOS 低频小信号模型 基本的 MOS 小信号模型 考虑二级效应后的小信号模型 λ≠0 1考虑沟道调制信号 MOS 低频小信号模型 例:求下列电路的低频小信号电阻(γ=0) 例:求下列电路的低频小信号输入电阻(γ=0) 例:求下列电路的低频小信号输入电阻(γ=0) 小信号电阻总结(γ=0) 完整的MOS小信号模型 试画出出下列电路的交流小信号模型图、大信号分析图,并写出小信号增益、输出电阻、输入电阻 1电阻负载的共源级 2MOS二极管连接负载的共源极 3采用电流源负载的共源级 4工作在线性区的MOS为负载的共源级 5带源极负反馈的共源级 6源跟随器(电流源负载) 7共栅级放大器 8共源共栅级放大器(电流源负载) 对于图a:CDB=CSB = WECj + 2(W+E)Cjsw 对于图b: CDB=(W/2)ECj+2((W/2)+E)Cjsw CSB=2((W/2)ECj+2((W/2)+E)Cjsw = WECj +2(W+2E)Cjsw 减小结电容的方法“折叠”结构或“叉指结构” 用独立源来表示 用电阻来表示 2考虑体效应后的小信号模型 γ≠0 在饱和区gmb可以表示为 对于图(A): 对于图(B): 对于图(C): ν为载流子速度,Eds= Vds/L为漏到源方向电场强度,Vds为漏到源电压。

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