NiAgAl合金反射层在GaN基大功率LED中的应用资料讲解.pptVIP

NiAgAl合金反射层在GaN基大功率LED中的应用 大连路美-研发中心 唐勇 内容提要 1、项目简介 2、研发过程 3、项目成果 4、成果总结 项目简介 项目目标：制作出反射率良好、粘附性强、 热稳定高的金属反射镜面。 Sapphire n-GaN p-GaN 反射镜 研发过程-核心金属Ag-基本特性 元素英文名称：Silver 熔点：961.78℃ 电阻率：1.586×10^-8 Ω·m（20℃） 有很好的柔韧性和延展性，是导电性和导热性最好的金属。 研发过程-核心金属Ag-优点 反射率高达95%以上（460nm波段） 价格便宜，6元/g 研发过程-核心金属Ag-缺点 粘附性差 球聚特性 热稳定性差 解决方案：合金！ 合金的特性：通过在纯金属中掺入不同比 例的其他金属得到具有比纯金属更优良的 特性的合金金属，分为二元合金和多元合金。 研发过程-实验设计 Ni 20nm Ag 200nm Ag 200nm Al 20nm Ag 200nm Al 20nm Ag 200nm Ni 20nm 蓝宝石 蓝宝石 蓝宝石 蓝宝石 研发过程-实验设计 Table I．Roughness and reflectivity of samples at 460nm 退火前反射率（%） 退火后反射率（%） 表面粗糙度（nm） Ag 94.2% 68.1% 35.428 Ni/Ag 74.9% 93.5% 10.665 Ag/Al 93.7% 86.3% 15.268 Ni/Ag/Al 73.6% 92.6% 11.736 研发过程-退火之后 Ag：反射率 94.2% 68.1%, 粗糙度:35nm Ni/Ag:反射率74.9% 93.5%,粗糙度:10nm Ag/Al:反射率93.7% 86.3%,粗糙度:15nm Ni/Ag/Al:反射率73.6% 92.6%,粗糙度:12nm 研发过程-激光切割 激光切割工艺 Sapphire LED层 反射镜 激光 研发过程-激光切割后 Ag：反射率 68.1%,粗糙度:35nm Ni/Ag:反射率93.5%,粗糙度:10nm Ag/Al:反射率86.3%,粗糙度:15nm Ni/Ag/Al:反射率92.6%,粗糙度:12nm 项目成果-实验结论 薄Ni层的引入,改善了纯银镜面的黏附性,同时大大的缓和了纯银的球聚特性. 薄Al层的引入,改善了纯银镜面的高温稳定性,在600℃的高温下不会发生脱落现象. 在45mil芯片上制作Ni/Ag/Al结构镜面,最终白光封装提高亮度达到20%.我司P6型号大功率芯片突破100lm/W的技术指标,同时推向市场. 成果分析-其他应用领域 垂直结构芯片 倒装结构芯片 Metal Reflector 成果分析-项目总结 核心金属-Ag 核心方案-合金 针对Ag的三个缺点 寻找合金金属 新年快乐! 谢谢大家! 人有了知识，就会具备各种分析能力， 明辨是非的能力。 所以我们要勤恳读书，广泛阅读， 古人说“书中自有黄金屋。 ”通过阅读科技书籍，我们能丰富知识， 培养逻辑思维能力； 通过阅读文学作品，我们能提高文学鉴赏水平， 培养文学情趣； 通过阅读报刊，我们能增长见识，扩大自己的知识面。 有许多书籍还能培养我们的道德情操， 给我们巨大的精神力量， 鼓舞我们前进。 * *