射频发生器工艺技术.pdf

射频发生器工艺技术 RF项目转移介绍 RF （Radio Frequency）电源，在半导体设备上广泛应用，主要 是给CVD、ETCH、ASHER 、SPUTTER等设备配套，现在国产半导体 装备已经逐步形成规模，以上这些设备国内已有制造，RF的需求 也在一直增加，但是RF电源及匹配器的技术一直再被国外掌握， RF产品还需从国外订购，严重制约国产装备的国产化率，但如果 开发成功，市场容量还是很大的。现在该产品由几个大品牌（ENI、 AE 、COMDEL ）在垄断着市场。 现在，有一家外国公司已经开发出13.56MHZ 300W—600W的电 源和匹配器产品，正在开发大功率的产品，他们也想跟中国企业 合作，尽快在市场占据一定份额。如果现在想开发此产品，国内 的基础很弱，最好是借助国外的技术共同开发，会大大缩短周期， 更快进入市场。现有产品已经进入市场销售，并需求国内合作方 共同开发高电压、大功率RF产品。 Products RF Generator • Apply high efficient LDMOS RF devices • Apply high efficiency DSP control technology • Reliable output • High control-ability against unexpected load fluctuation • Upgrade quality of plasma produced by high performance • User friendly system interface • Improved productivity • Low cost of ownership 3 Products RF Generator 4 Specifications 5 Products Auto Matcher • Stepping Motor control system • Apply broadband detector • Self-detecting system for the status• Intuitive and convenient GUI and location of capacitor • Various waves and wide power • Accurately Controlling by No Gear range system • Convenient interface (RS-232 • Improved durability by minimizing A/D) driving components • Able to provide customized matcher optimized for plasma source 6 GUI Interface Mode Select Capacitor Display Comm.