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第十一章 晶体薄膜衍衬成像分析 Transmission electron microscope 第二节 样品制备 TEM应用的深度和广度一定程度上取决于试样制备技术。 能否充分发挥电镜的作用,样品的制备是关键,必须根据不同仪器的要求和试样的特征选择适当的制备方法。 电子束穿透固体样品的能力,主要取决于加速电压V和样品物质的原子序数Z。一般V越高,Z越低,电子束可以穿透的样品厚度越大。 对于TEM常用的50~200kV电子束,样品厚度控制在100~200nm,样品经铜网承载,装入样品台,放入样品室进行观察。 TEM样品制备方法有很多,常用支持膜法、晶体薄膜法、复型法和超薄切片法4种。 一、支持膜法 粉末试样多采用此方法。 将试样载在支持膜上,再用铜网承载。 支持膜的作用是支撑粉末试样,铜网的作用是加强支持膜。 支持膜材料必须具备的条件: ① 无结构,对电子束的吸收不大; ② 颗粒度小,以提高样品分辨率; ③ 有一定的力学强度和刚度,能承受电子束的照射而不变形、破裂。 常用的支持膜材料:火棉胶、碳、氧化铝、聚乙酸甲基乙烯酯等。 在火棉胶等塑料支持膜上镀一层碳,提高强度和耐热性,称为加强膜。 一、支持膜法 一、支持膜法 支持膜上的粉末试样要求高度分散,可根据不同情况选用分散方法: ① 悬浮法:超声波分散器将粉末在与其不发生作用的溶液中分散成悬浮液,滴在支持膜上,干后即可。 ② 散布法:直接撒在支持膜表面,叩击去掉多余,剩下的就分散在支持膜上。 二、晶体薄膜法 块状材料多采用此方法。 通过减薄制成对电子束透明的薄膜样品。 薄膜样品制备方法要求: 制备过程中不引起材料组织的变化。 薄,避免薄膜内不同层次图像的重叠,干扰分析。 具有一定的强度和刚度,在制备、夹持操作过程冲不被损坏。 不允许表面氧化或腐蚀。 二、晶体薄膜法 薄膜样品制备步骤: ① 切取:切取薄块(厚度0.5mm)(电火花线切割法) ② 预减薄:用机械研磨、化学抛光、电解抛光减薄成“薄片”(0.1mm) ③ 终减薄:用电解抛光、离子轰击减薄成“薄膜”(500nm) 图11-1 线切割示意图 二、晶体薄膜法 预减薄方法:预减薄厚度控制在0.1~0.2mm,主要为去除切片引起的表面损伤层,方法有机械法和化学法化学减薄液;机械法即手工研磨,不能用力过大并充分冷却,以避免样品 的组织结构发生变化 机械法:通过手工研磨完成。 化学法:把切割好的金属薄片放入配制好的化学试剂中,使它表面受腐蚀而继续减薄。 避免引起组织结构变化,不用或少用机械方法。终减薄时去除损伤层。 3) 最终减薄 最终减薄后获得表面无腐蚀和氧化、且对电子 束透明的样品。方法为双喷电解抛光法和离子减薄法 对于金属材料通常采用高效简便的双喷电解抛光法,其原 理间图11-2,电解抛光液配方见表11-2或查找有关手册 对于不导电材料,可采用离子减薄法,但此方法比较费时 图11-2 双喷电解减薄原理示意图 终减薄方法: 双喷式电解抛光减薄 离子减薄 二、晶体薄膜法 三、复型法 在电镜中易起变化的样品和难以制成薄膜的试样采用此方法。 用对电子束透明的薄膜(碳、塑料、氧化物薄膜)把材料表面或断口的形貌复制下来的一种间接样品制备方法。 复型材料和支持膜材料相同。 表面显微组织浮雕的复型膜,只能进行形貌观察和研究,不能研究试样的成分分布和内部结构。 ① 一级复型塑料一级复型 样品上滴浓度为1%的火棉 胶醋酸戍酯溶液或醋酸纤维 素丙酮溶液,溶液在样品表 面展平,多余的用滤纸吸掉, 溶剂蒸发后样品表面留下一 层100nm左右的塑料薄膜。 分辨率低(10-20nm),电子束照射下易分解和破裂。 三、复型法 ① 一级复型塑料一级复型 三、复型法 碳一级复型 样品放入真空镀膜装置中, 在垂直方向上向样品表面蒸镀 一层厚度为数十纳米的碳膜。 把样品放入配好的分离液中进 行电解或化学分离。 分辨率高(2-5nm), 电子束照射下不易分解和 破裂,样品易遭到破坏。 三、复型法 喷碳装置 三、复型法 碳一级复型 ② 二级复型 先一次复型,然后进行二次碳复型,把一次复型溶去,得到第二次复型。 为了增加衬度可在倾斜15-45°的方向上喷镀一层重金属,如Cr、Au等。 三、复型法 塑料-碳二级复型 塑料-碳二级复型结合两种一级复型的优点: 不破坏样品原始表面; 最终复型碳膜,稳定性和导电导热性都很好; 电子束照射下不易分解和破裂; 分辨率和塑料一级复型相当。 适于粗糙表面和断口的复型。 三、复型法 塑料-碳二级复型 三、复型法 δ相在样品上是凸起的。 ③ 萃取复型 用碳膜把经过深度侵蚀 (溶去部分基体)试样表 面的第二相粒子黏附下来。 既复制表面形貌
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