刻蚀工序培训剖析.ppt

D.设备喷淋的异常 喷淋的异常会导致药液残留和一些反应不能正常进行，进而出现脏片。 预防措施： 1.设备每次做完PM时调整好喷淋角度，并用假片检查硅 片是否有脏片。 2.生产每两小时检查设备是否有碎片卡在滚轮中，堵住喷 淋口 3.盖挡板时须轻放，避面挡板打偏喷淋口 4.对于碱槽，当设备待料超过15分钟时必须冲洗喷淋及风刀 E.过刻的异常 后清洗造成过刻，镀膜后黑边，且造成短路，从而影响效率及良率 预防措施： 1.调节排风或降低流量或提高速度 2.设备端安装排风监控表，并每天检查 3.滚轮或槽体挡板变形，需调整滚轮或挡板 4.药液浓度异常，需调节浓度 5.希望设备端给设备安装实际测量药液补加的测量器 F.设备滚轮的变形异常 导致碎片、腐蚀不均、过刻、硅片沾不到液等，最终影响效率 预防措施： 1.设备PM时定期检查 2.工艺及时反馈刻蚀状况 G.设备PM彻底性和细化 PM进行的彻底到位可以保证生产的正常进行，如滤芯的清洗，清洗不好，可能导致水不干净，造成水痕脏片等；碎片清理不彻底可能导致碎片流入药液管道造成药液流量降低，滴定阀堵塞漏酸，造成脏片等。 预防措施： 1.要求设备PM之前必须冲洗各个槽滚轮，且在PM后工艺端检查是否做到位，看碎片是否清洗干净，滚轮是否安装好等 H.测量仪器的短缺 测量仪器的短缺会造成测量不能及时进行，产品质量不能保证，甚至导致生产大量不良片后才发现。至少保证每两台机器有一台测量仪器（电子天平和绝缘电阻测试仪）。 预防措施： 1.设备定期检查测量仪器是否完好，准确 2.校正部门应定期校正测量仪器 3.应给每台设备配备测量仪器 I.工艺规定和要求执行的不彻底 1.主要包括新换药液后和待机一段时间后跑假片，假片跑不够，就会出现滚轮影或刻蚀量不够； 2.片源不足时集中投放，不然前清洗容易出现刻蚀量不均匀，后清洗容易出现过刻； 3.清洗后的片子放置时间控制，硅片表面氧化，影响后面效率良率； 4.待料时滚轮不及时冲洗，容易出现碱槽喷淋风刀盐结晶堵塞，导致出现脏片和 水洗1槽滤芯盐结晶堵塞，出现流量低，从而出现脏片等。 预防措施： 1.培训员工了解工艺规范 2.建立考核制度 3.工艺设备加强检查生产的执行情况 J.员工的操作不当、质量意识欠缺以及作业区5S执行状况 主要表现为片子放反，出现不良时不能及时发现隔离并通知工艺和设备，减少不良产生等。手套，片盒，桌面，机台等卫生状况都会影响产品质量。 预防措施： 1.培训员工了解工艺规范及5S规范 2.建立考核制度 3.5S、工艺、设备加强检查生产的执行情况 情况 一 ：碱槽发生堵片 片子在碱液中浸泡时间过长，硅片会于碱液发生反应，正面的PN结很快就会受到破坏，而后会腐蚀表面的金字塔，甚至达到抛光的效果。碱槽发生堵片需立即用大量清水冲洗硅片，待片子取出后，手动状态下用RENA清洗这些片子（水喷淋、酸洗、吹干），将片子上残留的酸液洗净，然后进行方块电阻的测量，电阻无异常的可按正常程序继续生产下去（从镀膜开始往下做）；电阻异常的，扩散能返工好的在扩散返工，扩散无法返工的从制绒开始重新做。 情况 二：刻蚀槽发生堵片 此时片子正面一般都会沾上刻蚀液，从而破坏正面的PN结。为防止刻蚀液被稀释，取片时不宜用大量水冲洗。这种片子取出后，需在手动状态下用RENA清洗这些片子（碱洗、水洗、酸洗、吹干），将片子上残留的酸液洗净，然后进行方块电阻的测量，电阻无异常的可按正常程序继续生产下去（从RENA开始往下做）；电阻异常的，扩散能返工好的在扩散返工，扩散无法返工的从制绒开始重新做。 情况 三 ：酸槽发生堵片 片子在酸液中浸泡时间过长，硅片会于酸液发生反应，在电池片表面形成一种黄褐色的膜。酸槽发生堵片时立即用大量清水冲洗，只要冲洗及时是不会有影响的，此时只要手动状态下用RENA清洗这些片子（水喷淋、酸洗、吹干），然后从镀膜开始往下做。 情况 四 ：设备断电或重大报警导致的机器异常停止 设备断电或异常停止后，刻蚀槽溶液会自动打回储备槽。 1.若果设备立即就能恢复，此时将设备切换到手动状态，将除刻蚀槽外的所有工序打开，然后打开滚轮，让硅片及时走出。这种情况下，出现异常时已经经过碱槽的片子可正常往下做；而停在刻蚀槽中的片子需重新完整的再经过一遍RENA刻蚀：碱槽的片子需测一下方块电阻，正常即可往下做，电阻变大需从扩散开始返工。 2.若果设备较长时间不能恢复，此时尽量用水枪冲洗滞留在碱槽、酸槽中的片子，防止片子与溶液发生反映。待设备恢复后