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XPS原理使用分析
X射线光电子能谱分析 XPS XPS—X-rays Photoelectron Spectroscopy ESCA—Electron Spectroscopy for Chemical Analysis 1.X射线光电子能谱仪发展历史 爱因斯坦:光电效应 50年代,K.Siegbahn研制成功XPS谱仪 60年代,发展成为商用仪器 主要:PHI公司,VG公司,Karatos 公司 发展方向:单色化,小面积,成像XPS 2.仪器功能与特点: (1)定性分析--根据测得的光电子动能可以确定表面存在哪些元素。灵敏度约0.1at%。 (2)定量分析--根据具有某种能量的光电子的强度可知某种元素在表面的含量。误差约20%。 (3)根据某元素光电子动能的位移可了解该元素所处的化学状态,有很强的化学状态分析功能。 (4)由于只有距离表面几个纳米范围的光电子可逸出表面,因此信息反映材料表面几个纳米厚度层的状态。 (5)结合离子溅射可以进行深度分析。 (6)对材料无破坏性。 (7)由于X射线不易聚焦, 照射面积大,不适于微区分析。 能量关系: Hν = Eb+Φs+Ek’+Er Eb-电子结合能(以费米能级为零点) Φs-样品材料的功函数 Ek’-电子刚逸出表面时具有的动能 Er –出射电子的反冲能 由于样品与能谱仪接触,产生接触电势差,而在样品表面与能谱仪之间产生电场,使光电子射出后在此电场中加速或减速,动能发生改变,测量到的动能与原始能量不一致。 平衡时,有关系 Ek = Ek’ -(Φsp- Φs) 因此可得(忽略反冲能) Hν = Eb+Φsp+ Ek 或 Ek = hν – Eb – Φsp 紫外光电子能谱分析UPS—Ultra-violet photoelectron Spectroscopy XPS分析使用的光源阳极是Mg或Al,其能量分别是1487和1254eV。 UPS的光源为氦放电灯,能量为21.2或40.8eV,其能量只能够激发出价带电子,因此主要用于价带分析。 XPS能谱仪的构成 主要: 超高真空系统; X射线源; 能量分析系统 电子控制系统 数据采集和处理系统 1.X射线源 X射线的产生 X射线源的结构 X射线的单色化 X射线的聚焦和扫描 Mg/Al双阳极X射线源 能量范围适中(Mg:1253.7,Al:1486.7eV) X射线的能量范围窄(0.7和0.85 eV) 能激发几乎所有的元素产生光电子; 靶材稳定,容易保存以及具有较高的寿命 X射线的产生:阴极发射电子,直流高压电场对电子加速,高速碰撞阳极, 产生特征X射线 其中,ΔEx—X射线半宽度 ΔEe—光电子自然能量分布,与样品材料有关(不确定关系) ΔEs—固态宽化效应,激发光电子时产生晶格振动,即声 子对谱的影响 ΔEsp—谱仪的固有分辨率提高分辨率主要办法是减小X射线宽度,即提高单色性。 要求X射线的自然线宽小,分辨率才高 测得光电子能谱的半宽度为 2.电子能量分析器 3.超高真空系统 4.控制电路 5.样品台 6.样品准备 样品尺寸不宜过大,一般应不大于10x10x1mm; 样品表面应大体上平整; 样品最好能够导电; 表面应作脱脂处理,绝对避免用手触摸; 原始表面应尽可能尽快测试,避免长时间在空气中存放; 粉末样品可以压成块状,或撒布在胶带上;也可以将粉末溶解在适当溶剂中做成溶液,屠宰样品台上,再使溶剂挥发即成样品; 气体、液体样品多用冷却法令其凝固。 四、谱图分析 定性分析 定量分析 深度分析 化学状态分析 1.XPS定性分析 消除电荷效应 光电子被激发出以后,非导电样品上会逐渐积累正电荷,导致测量的光电子动能减小,表观结合能正移,从而影响分析结果。 办法: (1)电子枪发射电子中和; (2)样品表面镀金,厚度〈1nm; (3)在导电样品托上制备超薄样品; (4)外标法:样品上C1s的结合能为284.8eV。 能量定标 (1)利用已知特征谱:C 1s-284.3 eV (2)利用两条谱线,如: Cu 2p3/2-932.8 eV,Cu 3s-122.9 eV Au 4f7/2-83.8 eV, Cu 2p3/2-932.8 eV (3)已知能量的两种光子激发同一样品的某一能级,则两次测量的能量差即为光子能量差。Mg与Al阳极的能量差是233.01 eV。 不同实验室测量的结合能值可能相差达1 eV。 2.定量分析 与俄歇电子能谱分析相同,使用相对灵敏度因子法. 误差~20%. 谱峰强度按峰面积计. XPS的谱峰往往比较宽,不能仅根据峰高度来确定强度,一般以谱峰下的面积作为强度,大致等于峰高x半峰宽 * 一、概述 一、概述 1.XPS的产生 当单色的X射线照射样
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