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专升本《微电子器件与IC设计》_试卷_答案
专升本《微电子器件与IC设计》
一、 (共71题,共150分)
1. 电阻率小于的材料称为( )。 (2分)
A.导体 B.绝缘体 C.半导体 .标准答案:A
2. 半导体硅材料的晶格结构是( )。 (2分)
A.金刚石 B.闪锌矿 C.纤锌矿 .标准答案:A
3. 施主杂质电离后向半导体提供( )。 (2分)
A.空穴 B.电子 C.空穴与电子 .标准答案:B
4. 砷化镓中的非平衡载流子复合主要依靠( )。 (2分)
A. .标准答案:A
5. 室温下,半导体Si中掺硼的浓度为,同时掺有浓度为的磷,空穴浓度为( )。(已知:室温下) (2分)
A.
B.
C.
.标准答案:C
6. 室温下,半导体Si中掺硼的浓度为同时掺有浓度为的磷,少子浓度为( ),(已知:室温下) (2分)
A.
B.
C.
.标准答案:C
7. 载流子的漂移运动产生( )电流。 (2分)
A.漂移 B.隧道 C.扩散 .标准答案:A
8. 平衡状态下半导体中载流子浓度载流子的产生率等于复合率,而当时,载流子的复合率( )产生率。 (2分)
A.大于 B.等于 C.小于 .标准答案:C
9. MIS结构半导体表面出现强反型的临界条件是( )。(VS为半导体表面电势;qVB Ei-EF) (2分)
A.VS VB B.VS 2VB C.VS 0 .标准答案:B
10. 在开关器件及与之相关的电路制造中,( )已作为缩短少数载流子寿命的有效手段。 (2分)
A. .标准答案:C
11. 平面扩散型双极晶体管中掺杂浓度最高的是( )。 (2分)
A.发射区 B.基区 C.集电区 .标准答案:A
12. 下列固体中,禁带宽度Eg最大的是( )。 (2分)
A.金属、 B.半导体、 C.绝缘体 .标准答案:C
13. 在下列半导体中,费米能级最高的是( )。 (2分)
A.强P型 B.弱P型 C.强N型 .标准答案:C
14. 位错是半导体材料中的一种常见的( )。 (2分)
A.点缺陷 B.线缺陷 C.面缺陷 .标准答案:B
15. 半导体的电导率随掺杂浓度的增加而( )。 (2分)
A.增加 B.减小 C.不变 .标准答案:A
16. 根据成分的不同,半导体材料可以分为两类,分别是____________________和____________________。 (4分)
.标准答案:1. 元素半导体;2. 化合物半导体。;
17. PN结电击穿的产生机构两种,分别是________________和________________。 (4分)
.标准答案:1. 雪崩击穿;2. 隧道击穿或齐纳击穿。;
18. 当MOSFET器件尺寸缩小时会对其阈值电压VT产生影响,具体地,对于短沟道器件对VT的影响为________,对于窄沟道器件对VT的影响为________。 (4分)
.标准答案:1. 下降;2. 上升;
19. 平衡状态下,我们用统一的费米能级EF来标志电子填充能级的水平,在非平衡状态下,导带中的电子填充能级的水平是用________________________(EFn)来衡量,价带中电子填充能级的水平是用________________________ (EFp)来衡量。 (4分)
.标准答案:1. 导带费米能级;2. 价带费米能级;
20. 在二极管中,外加反向电压超过某一数值后,反向电流突然增大,这个电压叫________________。 (2分)
.标准答案:1. 击穿电压;
21. 在开关器件及与之相关的电路制造中,________________已作为缩短少数载流子寿命的有效手段。 (2分)
.标准答案:1. 掺金工艺;
22. 电阻率小于的材料称为( )。 (2分)
A.导体 B.绝缘体 C.半导体 .标准答案:A
23. 下列固体中,禁带宽度Eg最大的是( )。 (2分)
A.金属 B.半导体 C.绝缘体 .标准答案:C
24. 受主杂质电离后向半导体提供( )。 (2分)
A.空穴 B.电子 C.空穴与电子 .标准答案:A
25. 衡量电子填充能级水平的是( )。 (2分)
A.施主能级 B.费米能级 C.受主能级 .标准答案:B
26. 室温下,半导体Si中掺硼的浓度为同时掺有浓度为的磷,费米能级( );(已知:室温下) (2分)
A.高于Ei B.低于Ei C.等于Ei .标准答案:A
27. 室温下,半导体Si中掺硼的浓度为同时掺有浓度为的磷,少子浓度为( ),(已知:室温下) (2分)
A.
B.
C.
.标准答案:C
28. 下列器件属于多子器件的是( )。 (2分)
A.稳压二极管 B.肖特基二极管 C.发光二极管 .标准答案:B
29. 实际生产中,制作欧姆接触最常用的方法是( )。 (2分)
A.重掺杂的
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