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一、准分子雷射的基本概念.doc

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一、准分子雷射的基本概念.doc

一、準分子雷射的基本概念: 準分子雷射名稱中的準分子 ”eximer”為excited的前半部與dimer的後半部組合而成的。準分子雷射的工作物質是準分子氣體。 一般的氣體分子,他們在一般的狀況下,如果沒有外來影響,如加熱、光照或電子碰撞,不會自行分解成其他分子或離子,準分子則不然。準分子就是一種處於激發態的複合粒子,在標準狀態下,即在基態時,它處於分離狀態,而在激發態處於分子狀態。也就是說,這種分子只存在於激發態,不存在於基態。基態時,分子在很短時間內(幾十毫微秒)自動分解成離子或其他分子。 準分子例如ArF,KrCl,KrF,XeBr,XeCl,XeF等,是由一個惰性氣體原子如He,Ne,Ar,Kr與化學活性較活潑的鹵素原子如F,Cl,Br組成的。惰性氣體原子原本是不會和別種原子形成分子的,但是如果把它們和鹵素元素混合,再以放電來激發他們,就可能成為激發態的分子,當激發態放出光子而躍遷回基態時,及立刻分解,還原成本來的特性後,而激發出高功率的紫外光。 如圖(一)所示,KrF是在激發態的分子,它的位能曲線有一極小值,表示中間有一平衡點,所以是分子。在X2(低能階,乃是受溫度激發而成,分子結合甚弱,其量甚少,因此只要激發到激發態,就很容易達到population inversion,而增益相對提高。準分子雷射和N2分子雷射相似,亦為電子態之間躍遷發射雷射,雷射波長多在紫外區和真空紫外區,因此這類器件又稱紫外雷射。由圖中也可看出準分子的輸出波長落在紫外光,同時略可調整。 圖一 準分子能階圖 由於準分子的生命期長短只有10ns,瞬間便掉到基態並放出一定波長的紫外光,因此,光腔中的反射鏡片和其他光學系統,如聚焦系統的材料,必須考慮為紫外光材料,但又因此類雷射增益甚高,故可考慮使用非穩定空腔。 準分子雷射具有以下特性:(1)由於excimer存在時間甚短,在共振腔內的往復次數少,缺乏resonat oscillation,因此光束的指向性差(擴散角大),光束的模態不良。(2)不同的氣體組成可放出191nm-354nm不同波長的紫外光電磁波。(3)單一脈衝的功率極高,約為109-1010W/cm,但因脈衝時間短,所以單一脈衝的能量約可達數個焦耳以上。(4)準分子一旦躍遷到激發態就形成穩定的束縛分子態。(5)準分子躍遷至基態釋放出能量就立即離解,即表示它的基態永遠找不到準分子。(6)準分子下能級為連續排斥態,因此不存在旋轉-振動能級。對應於每一上能級的分立能態就有一個連續的發射譜,所以有可能實現準分子雷射的寬頻帶的連續調諧。 圖(二)代表準分子雷射的輸出特性。 ArF 氟化氯 KrCl 氯化氪 KrF 氟化氪 XeBr 溴化氙 XeCl 氯化氙 XeF 氟化氙 波長(nm) 193 222 248 282 308 351 輸出能量(J/pulse) 0.2 0.05 0.25 0.01 0.08 0.08 重複率(Hz) 100 100 150 100 150 100 脈波寬度(ns) 10-20 5-15 10-20 7-20 4-20 10-20 光束大小 1×2.5cm 擴散角 2×5mrad 圖二 二、準分子雷射的結構介紹: 一般商用的excimer雷射結構示意圖,如圖所示。它採用橫向放電流動式。下面為儲氣管,上面為放電腔。 圖三 準分子雷射結構示意圖 放電腔上邊為陰極,陰極上有兩排針狀預電離電極,下邊為陽極。電極一般用鋁合金成形後,再鍍鎳。放電腔其他部分用抗化學腐蝕,高絕緣性、機械性能好的壓克力或Teflon製成。陽極兩邊開有兩排小孔與儲氣管相通。整個儲氣管及放電腔的接縫全部採用’’O’’KV~30KV,控制主放電的開關元件一般用火花隙或閘流管(Thyratron)。其放電最佳 E/P值工作。 Excimer雷射一般來講,不用共振腔也能獲得雷射輸出,因為它的增益非常之大,但是為了提高光束品質,往往也使用共振腔,它的前反射鏡使用平面鋁反射鏡,而輸出鏡使用CaF2標準具式的平板(不鍍任何反射膜)反射鏡。 三、準分子雷射於醫療方面的應用: 眼科 眼科使用的準分子雷射,為激發氬氣(Argon)及氯氣(Fluoride)之混合氣體後,產生的雷射光,波長193nm,屬於超紫外線光譜,由於波長極短,光子能量極高,達6.4ev,因此可以切斷分子鍵,達到準確切割組織的效果,此作用稱為光切作用。其切割的準確度可達二百萬分之一公尺以下,同時由於每個脈衝波的時間極短,所釋放的熱能極少,因此對周邊組織的傷害以及導致的疤痕非常的輕微。因此,準分

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