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2017-06-07 发布于重庆
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TAK438杂质相关信息

TAK-438杂质列表杂质代号杂质结构分子量规格起始原料1的杂质 SM-1-A C11H6ClFN2 220.63 起始原料工艺中间体 SM-1-B C11H7FN2 186.19 起始原料工艺中间体 25mg-50mg-7 100mg- SM-1-C C11H7ClFNO 223.63 起始原料工艺副产物 SM-1-D C11H9NO 171.20 起始原料的起始原料残留工艺副产物 0.5g SM-1-E C11H8FNO 189.19 起始原料的起始原料残留 0.5g SM-1-F C11H8FNO 189.19 起始原料的起始原料残留 0.5g SM-1-G C11H8FNO2 205.19 起始原料工艺副产物 0.5g 起始原料2的杂质 SM-2-A C5H5NO3S 159.00 磺化副产物 SM-2-B C5H5NO3S 159.00 磺化副产物关键中间体及杂质 TAK-1 酰化物（关键中间体） C16H11FN2O3S 330.33 中间体 TAK-1-B 酰化物-B C16H10FN3O2S 327.05 原料杂质引入 100mg TAK-1-C 酰化物-C C16H12N2O3S 312.06 原料杂质引入 100mg TAK-1-D 酰化物-D C16H11FN2O3S 330.05 原料杂质引入 100mg TAK-1-E酰化物-E C16H11FN2O3S 330.05 原料杂质引入 100mg TAK-1-F酰化物-F C16H10ClFN2O3S 364.78 原料杂质引入 100mg TAK-438成品杂质杂质A C16H13FN2O3S 332.06 工艺副产物 100mg 杂质B (TAK-2-吡啶异构体 C17H16FN3O2S 345.09 Free base SM-2引入杂质 100mg-9000 杂质C TAK-4-吡啶异构体 C17H16FN3O2S 345.09 SM-2引入杂质未成功得到杂质D TAK-间氟异构体 C17H16FN3O2S 345.09 SM-1引入杂质 100mg 杂质E TAK-对氟异构体 C17H16FN3O2S 345.09 SM-1引入杂质 100mg 杂质F TAK-去氟异构体 100mg 杂质G C11H10FNO 191.07 工艺副产物杂质H TAK-去磺酰基杂质 100mg 杂质I TAK-双甲基化杂质 100mg 杂质J TAK-去甲基化杂质工艺副产物甲胺杂质引入降解杂质 100mg 杂质K TAK-二聚体杂质 C33H27F2N5O4S2 659.73 Free base 副产物降解杂质 100mg 杂质L TAK-二聚体杂质 C28H24F2N4O2S 518.58 Free base 副产物降解杂质 100mg 杂质M TAK-二聚体杂质 C23H21F2N3 377.43 Free base 副产物 100mg 杂质N TAK-氧化杂质 C17H16FN3O3S 361.09 降解杂质 100mg 杂质O TAK-光降解杂质降解杂质杂质P(氯代吡啶杂质 C17H15ClFN3O2S 379.84 Free base 100mg U6 杂质Q 加成杂质 C21H20FN3O6S 461.46 25mg 50mg q2850803125 深圳卓越杂质对照品标准品参比制剂