台式镀膜仪和化气相沉积炉价格.docx

『润联网』 登录【润联网】查询价格 登录“润联网” 可查找底价 台式镀膜仪和化学气相沉积炉价格 标题:精密刻蚀镀膜仪682和磁控溅射镀膜系统MSDS价格 库号：JX149290 价格：百度搜【润联网】查询 主要技术参数： 多弧离子镀膜机，电弧离子镀膜设备是一种高效、无污染的离子镀膜设备，具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。真空电弧离子镀膜的原理是基于冷阴极自持弧光放电等离子体蒸发、电离镀料，结合脉冲偏压技术，提高沉积粒子能量和活性，增强膜层的各项性能。它不仅能在金属制品表面进行镀膜而且能在非金属制品表面上进行镀膜；可以镀金属膜，氮化钛、碳化钛、氮化锆、氮化铬及镍、铬、铜等化合物膜、多层超硬膜、多元化合物膜，还可以镀氮化钛掺金膜等。电弧离子镀膜广泛应用于工具、模具的超硬涂层，汽车轮毂、高尔夫球具、钟表、酒店用品、卫浴洁具、灯具、眼镜镜架、五金制品、陶瓷和玻璃等的装饰涂层等领域。DY-MS系列真空多弧离子镀膜机型号及技术参数性能型号DY-MS-700DY-MS-900DY-MS-1000DY-MS-1250DY-MS-1400DY-MS-1600镀膜室尺寸Ф700×H900mmФ900×H1100mmФ1000×H1200mmФ1250×H1350mmФ1400×H1600mmФ1600×H180 标题:电子束蒸发系统Tri-Axis和实时温度测试仪kSA参数 库号：JX163565 价格：百度搜【润联网】查询 主要技术参数： 分子泵超高分辨镀膜，放大倍率可到30-60万倍也不会看到镀膜颗粒，适用于现阶段超高分辨场发射或双束电镜使用如FEI Nova,Megglen,Verios,Helios等; Hitachi SU8000,SU8200,S4800,9000等; 7600F 7800F等; ZEISS Merlin,Ultra,Auriga;专利磁控冷态喷镀专利冷态镀膜设计使用真正的“平衡磁控管”没有等离子体电流在样品，在得到高分辨非晶镀膜层同时避免样品受到热损伤，对热损伤或辐照损伤敏感样品尤为适合广泛的镀层靶材选择特殊双极磁控管头设计和有效的气体离子处理使得208HR拥有广泛多种镀层靶材选择 全自动化设计自动的换气与泄气功能，溅射电流和电压通过磁控头的传感线监控，蒸发源作为反馈回路中的一部分被控制保证了均匀一致的膜厚，和最佳的导电喷镀效果。 超高精度膜厚监控设计使用可选MTM-20全自动高分辨膜厚监控仪可优化设计镀膜条件达到0.1nm膜厚可控效果 多用途样品托设计独立的旋转，水平和倾斜 3轴移动设计优化了多样品以及不规则样品 标题:快速磁控溅射仪和电镜专用高真空镀膜仪价格 库号：JX163566 价格：百度搜【润联网】查询 主要技术参数： System 100 -等离子刻蚀与沉积设备 该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。 具有最大的工艺灵活性，适用于化合物半导体，光电子学，光子学，微机电系统和微流体技术， PlasmalabSystem100可以有很多的配置，详情如下。主要特点可处理8 晶片，也具有小批量（6 × 2）预制和试生产的能力选择单晶片/批处理或盒式进样，采用真空进样室。 该PlasmalabSystem100可以集成到一个集群系统中，采用中央机械手传送晶片，生产工艺中采用全片盒到片盒晶片传送. 采用一系列的电极进行衬底温度控制，其温度范围为-150 ° C至700° C用于终端检测的激光干涉和/或光发射谱可安装在Plasmalab System100以加强刻蚀控制选的6 或12路气箱为工艺流程和工艺气体提供了选择上的灵活性，并可以放置在远端，远离主要工艺设备工艺一些使用Plasmalab Syste 标题:真空镀膜仪和全自动镀膜系统价格 库号：JX163567 价格：百度搜【润联网】查询 主要技术参数： 型号/modelWBMW-DLZ3可加热材料 非易燃易爆的任何材料微波频率2.45GHZ±50MHz加热方式纯微波加热最大功率/KW3 (功率可调)最高工作温度/℃1200长期工作温度/℃≤1100温度测试元件微波场专用传感器/红外测温可选控温精度/℃±2（微波场专用传感器）石英管尺寸(外径/内经X长度)/mmφ102/φ92x1000真空系统配置（可选）简单机械泵抽真空和不锈钢法兰；10-1Pa真空用高档机械泵及真空计；10-2Pa真空用高档机械泵、扩散泵及真空计；10-3Pa真空用高档机械泵、分子泵及真空计；升温速率(标配) 0～1000℃/min任意设定，可编程、分段加热外型尺寸(长x宽x高)/mm1000′750′1830微波泄漏量/nb 标题:膜电子束蒸