高真空磁控溅射镀膜机挂网doc .doc

重庆大学高真空磁控溅射镀膜机 我校拟采购高真空磁控溅射镀膜机，相关要求如下： 极限真空：溅射室 经烘烤 真空度极限≤×10-5Pa。 系统漏率：停泵关机12小时后，溅射室真空度可达≤10Pa。 工作真空：二次恢复真空时间：短时间暴露大气充干燥氮气 0min（空载） 可以抽至×10-4Pa。 旁抽系统：旁抽系统采用一路动角阀抽气。通过三通和管道由KF40电磁截止阀使机械泵和分子泵切换。 溅射靶：设备配置支矩形磁控靶，支矩形永磁溅射靶：靶尺寸mm×100mm；工作压强 Pa-10 Pa；功率密度：6-8 W/cm2；工作电压 500V；带有屏蔽气动挡板。 供气系统：采用路MFC质量流量计供气，气体可相互实现比例控制进气，或单独进行，匀气环。 样品转台采用Φ350×H400（mm），可实现公转、自转功能，转速无级连续可调，样品转台可耐负偏压00伏。 加热系统：真空室顶部中心可装一套可拆卸的不锈钢K装加热，温度00℃，采用日本控温，温度可控可调 阳极层离子源（无灯丝）：1套，尺寸与磁控溅射靶相似，可以共享磁控溅射靶的靶座。 设备具有足够的功能扩展能力，比如预留有观察窗，靶位等。 1 、溅射真空室结构 1.1、结构形式及尺寸： 真空室不小于Φ550×H500（mm），为圆形截面全不锈钢立式上升盖双层水冷结构，真空室材料均采用优良材质的304不锈钢制造，零件加工工艺、部件装配工艺严格按照真空规范执行。真空室整体加工完成后要进行真空炉整体出气处理和表面特殊工艺处理。 1.2、真空室侧面主要接口布局： 真空室侧面上开有四个矩形磁控靶接口；下底盘开一个泵抽法兰接口，二个电极引线接口；二个观察窗接口（保证观察无盲点）；在顶部中心开有加热器安装接口，加热器电极引入接口，工作气体进气法兰接口二个，放气阀法兰接口，旁路抽气接口、测温热偶法兰接口三个及备用法兰接口等。 1.3、真空室底板主要接口布局： 真空室底板开有样品转台接口一个；泵抽法兰接口一个；规管测量接口等。 1.4、法兰、观察窗、密封件： CF35备用盲法兰四个；CF50备用盲法兰二个。 Φ100观察窗二个（保证观察无盲点）。样品转台安装、转动密封口及矩形磁控靶、真空室上盖等均采用氟橡胶圈密封。 2、真空抽气与测量系统 2.1、主抽系统： 真空室主抽气采用大抽速的分子泵作为主抽泵，采用机械泵为前级泵。 2.2、旁抽系统： 旁抽系统采用一路抽气，配有手动角阀抽气，不锈钢液压波纹管道连接。 2.3、真空测量： 采用复合数显真空计测量真空度。 2.4、真空室放气： 真空室解除真空时，采用一路手动阀放气。 2.5、冷却水路系统： 设备配有可制冷的冷却水循环机一台，设备上配有分水器和水流继电器，一旦水流停止，设备会报警及断电保护。 3、电源控制系统 3.1、总控制电源： 分子泵、机械泵、电磁阀、水压报警、照明、烘烤、靶挡板、样品台转动等 3.2、射频电源： 功率：5KW 二台 3.3、直流恒流电源： 功率：5KW 二台 3.4、单级脉冲偏压电源： 功率：10KW 一台 3.5、样品转动控制电源： 一台 3.6、加热控制电源： 一台 投标设备厂商资格要求： 1.具有为国家重大学科工程建设提供相关设备的资历与经验 2.具有整体出气处理和表面特殊工艺处理能力和真空镀膜设备研发制造能力（镀膜设备达千台以上）拥有标准厂房和洁净装调间 技术咨询： 报名联系：李老师