第03章零件设计课件.ppt

3.17.2 草绘修饰特征 草绘（Sketch）修饰特征被“绘制”在零件的曲面上。例如，公司徽标或序列号等可“绘制”在零件的表面上。另外，在进行“有限元”分析计算时，也可利用草绘修饰特征定义“有限元”局部负荷区域的边界。 3.17.3 凹槽修饰特征 凹槽修饰特征（Groove）是零件表面上凹下的绘制图形，它是 一种投影类型的修饰特征，通过创建草绘图形并将其投影到曲面上 即可创建凹槽，凹下的修饰特征是没有定义深度的。注意：凹槽特 征不能跨越曲面边界。在数控加工中，应选取凹槽修饰（Groove） 特征来定义雕刻加工。 3.18 复 制 特 征 特征的复制（Copy）命令用于创建一个或多个特征的副本。Creo 1.0的特征复制包括镜像复制、平移复制和旋转复制，下面将分别介绍它们的操作步骤。 3.18.1 镜像复制 特征的镜像复制就是将源特征相对一个平面（这个平面称为镜像中心平面）进行镜像，从而得到源特征的一个副本，如图3.18.3所示。 图3.18.1 镜像复制特征 RIGHT 需要复制的特征 图3.18.2 镜像命令 RIGHT 镜像特征 源特征 镜像中心平面 图3.18.3　镜像特征复制完成图 3.18.2 平移复制 下面介绍对图3.18.4所示方孔特征进行平移（Translate）复制。 图3.18.4 平面方向 RIGHT 移动参考平面方向 源特征 3.18.3 旋转复制 同镜像复制和平移复制一样，旋转复制也需要具备复制移动所需的参考。旋转复制所需的参考可以是绕其转动的轴线、边线或者坐标系的坐标轴等。 图3.18.6 创建旋转复制特征 b) 创建后 a) 创建前 旋转复制的特征 源特征 旋转复制的参考轴线 旋转复制参考轴线与方向 源特征 3.19 阵 列 特 征 特征的阵列（Pattern）命令用于创建一个特征的多个副本，阵列的副本称为“实例”。阵列可以是矩形阵列、斜一字形阵列，也可以是环形阵列。在阵列时，各个实例的大小也可以递增或递减变化 。 3.19.1 矩形阵列 下面介绍图3.19.1中孔特征的矩形阵列的操作过程: 阵列（Pattern） 图3.19.1 创建矩形阵列 a) 阵列前 b) 阵列后 3.19.2 斜一字形阵列 下面将要创建图3.19.5 b所示的圆柱体特征的斜一字形阵列： 阵列（Pattern） Ф15 32 32 第一方向的第二引导尺寸 第一方向的第一引导尺寸 图3.19.5 创建斜一字形阵列 b) 阵列后 a) 阵列前 3.19.3 环形阵列 首先介绍用“引导尺寸”的方法来创建环形阵列。下面要创建图3.19.6所示的孔特征的环形阵列。作为阵列前的准备，先创建一个圆盘形的特征，再添加一个孔特征，由于环形阵列需要有一个角度引导尺寸，因此在创建孔特征时，要选择“径向”选项来放置这个孔特征。 环形阵列 41.1° R16.5 Ф10 角度引导尺寸 径向引导尺寸 图3.19.6 创建环形阵列 a）阵列前 b）阵列后 3.19.4 删除阵列 在模型树中单击任一阵列特征，再右击，选择“删除阵列”命令。 3.20 特 征 的 成 组 图3.20.1所示的模型中的凸台由三个特征组成：实体拉伸特征、孔特征和倒角特征，如果要对这个带孔和倒角的凸台进行阵列，必须将它们归成一组，这就是Creo 1.0中特征成组（Group）的概念（注意：欲成为一组的多个特征在模型树中必须是连续的）。 图3.20.1 特征的成组 带孔、倒角特征的凸台 3.21 扫 描 特 征 如图3.21.1所示，扫描（Sweep）特征是将一个截面沿着给定的轨迹“掠过”而生成的，所以也叫“扫掠”特征。要创建或重新定义一个扫描特征，必须给定两大特征要素，即扫描轨迹和扫描截面。 图3.21.1 扫描特征 扫描特征 扫描轨迹 扫描截面 应用扫描 扫描 3.22 混 合 特 征 将一组截面沿其边线用过渡曲面连接形成一个连续的特征，就是混合（Blend）特征。混合特征至少需要两个截面。图3.22.1所示的混合特征是由三个截面混合而成的。 图3.22.1 混合特征 混和特征 截面3 截面1 截面2 截面3 截面1 截面2 3.23 螺旋扫描特征 如图3.23.1所示，将一个截面沿着螺旋轨迹线进行扫描，可形成螺旋扫描（Helical Sweep）特征。 图3.23.1 螺旋扫描特征 螺旋扫描特征 轨迹＋截面＋中心线 螺旋旋转中心轴线 螺旋扫描的轨迹