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LCD工艺流程简介 NC -PE CY Tang Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 工艺流程 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 光刻 主要工序 投入 清洗 涂胶 曝光 显影 刻蚀 脱膜 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 玻璃投入 工序作用: 位于整条生产线的前端，负责整片ITO玻璃基板的投入。 要求ITO玻璃的規格型號符合產品的要求。 发料是最主要的是要记住ITO面朝上(通过大切角判断) ITO(indium tin oxide，氧化铟锡)导电玻璃是一种既透明又导电的玻璃，它采用磁控溅射沉积成膜技术，以ITO材料作为溅射靶材，在玻璃基板上生成一层很薄的ITO膜。 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 工序作用: 玻璃的清洗与干燥：用清洗剂以及去离子水（DI 水）等洗净ITO 玻璃，并用物理或者化学的方法将ITO 表面的杂质和油污洗净，然后把水除去并干燥，保证下道工艺的加工质量。 清洗 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 涂胶 工序作用: 在ITO 玻璃的导电层面上均匀涂上一层光刻胶，涂过光刻胶的玻璃要在一定的温度下将涂有光刻胶的玻璃烘烤一段时间，以使光刻胶中的溶剂挥发，增加与玻璃表面的粘附性 Glass基板 ITO 感光树脂膜 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 曝光 工序作用: 用紫外光（UV）通过预先制作好的电极图形掩模版照射光刻胶表面，使被照光刻胶层发生反应，在涂有光刻胶的玻璃上覆盖光刻掩模版在紫外灯下对光刻胶进行选择性曝光 Glass基板 UV光 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 显影 工序作用: 用显影液处理玻璃表面，将经过UV光照分解的光刻胶层除去，保留未曝光部分的光刻胶层，用化学方法使受UV 光照射部分的光刻胶溶于显影液中，显影后的玻璃要经过一定的温度的坚膜处理使光刻胶更加坚 Glass基板 現像液 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 刻蚀 工序作用: 用适当的酸刻液将无光刻胶覆盖的ITO 膜蚀掉，这样就得到了所需要的ITO 电极图形 注：ITO 玻璃为氧化铟锡的导电玻璃，易与酸发生反应，而用于蚀刻掉多余的ITO，从而得到相应的拉线电极 Glass基板 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 脱膜 工序作用: 用高浓度的碱液（NaOH 溶液）作脱膜液，将玻璃上余下的光刻胶剥离掉，从而使ITO 玻璃上形成与光刻掩模版完全一致的ITO 图形 Glass基板 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Clie