X射线光电子能谱仪(XPS).docx

X射线光电子能谱仪X-ray photoelectron spectro定义：用X射线激发试样光电子的能谱仪。适用于元素分析，价态和化学结构分析，也可测量电子结合能。 　主要用途： XPS： 1.固体样品的表面组成分析，化学状态分析，取样深度为～3nm 2.元素成分的深度分析（角分辨方式和氩离子刻蚀方式） 3.可进行样品的原位处理 AES： 1.可进行样品表面的微区选点分析（包括点分析，线分析和面分析） 2.可进行深度分析适合： 纳米薄膜材料，微电子材料，催化剂，摩擦化学，高分子材料的表面和界面研究 　仪器类别：/仪器仪表 /成份分析仪器 　指标信息： 主真空室：1×1010乇 XPS： AES: 分辨率：0.8cV 电子枪束斑：75nm 灵敏度：80KCPS 信噪比：大于70:1 角分辨：5°～90° 灵敏度：255KCPS A1/Mg双阳极靶 能量分辨率：0.3% 位置灵敏检测器（PSD） 　附件信息： XPS： 1.快速氩离子刻蚀枪 AES： 1.快速氩离子刻蚀枪 2.能量损失谱 , 主要研究领域包括：（1）TiO2纳米光催化以及在空气和水净化方面的应用；（2）汽车尾气净化催化剂新型金属载体的研究；（3）纳米药物载体及靶向药物的研究；（4）纳米导电陶瓷薄膜材料的研究；（5）纳米杂化超硬薄膜材料及摩擦化学的研究；（6）纳米发光材料及纳米分析化学研究；（7）有机电致发光材料的表面化学研究；（8）纳米材料在香烟减毒净化上的应用研究；（9）无机纳米杀菌与抗菌材料及其在饮用水净化上的作用；（10）电解水制氧电极材料的研究.X射线光电子能谱维基百科，自由的百科全书单色X射线光电子能谱系统的基本组件X射线光电子能谱（英文：X-ray photoelectron spectroscopy，简称XPS）是一种用于测定材料中/wiki/%E5%85%83%E7%B4%A0元素构成、/wiki/%E5%AE%9E%E9%AA%8C%E5%BC%8F实验式，以及其中所含元素/w/index.php?title=%E5%8C%96%E5%AD%A6%E6%80%81action=editredlink=1化学态和/w/index.php?title=%E7%94%B5%E5%AD%90%E6%80%81action=editredlink=1电子态的定量/w/index.php?title=%E8%83%BD%E8%B0%B1%E5%AD%A6action=editredlink=1能谱技术。这种技术用/wiki/X%E5%B0%84%E7%BA%BFX射线照射所要分析的材料，同时测量从材料表面以下1纳米到10纳米范围内逸出电子的/wiki/%E5%8A%A8%E8%83%BD动能和数量，从而得到X射线光电子/w/index.php?title=%E8%83%BD%E8%B0%B1action=editredlink=1能谱。X射线光电子能谱技术需要在超高真空环境下进行。XPS是一种/wiki/%E8%A1%A8%E9%9D%A2%E5%8C%96%E5%AD%B8表面化学分析技术，可以用来分析金属材料在特定状态下或在一些加工处理后的表面化学。这些加工处理方法包括空气或超高真空中的压裂、切割、刮削，用于清除某些表面污染的/w/index.php?title=%E7%A6%BB%E5%AD%90%E6%9D%9F%E8%9A%80%E5%88%BBaction=editredlink=1离子束蚀刻，为研究受热时的变化而置于加热环境，置于可反应的气体或溶剂环境，置于/wiki/%E7%A6%BB%E5%AD%90%E6%B3%A8%E5%85%A5离子注入环境，以及置于/wiki/%E7%B4%AB%E5%A4%96%E7%BA%BF紫外线照射环境等。XPS也被称作ESCA，这是化学分析电子能谱（Electron Spectroscopy for Chemical Analysis）的简称。XPS能够检测到所有/wiki/%E5%8E%9F%E5%AD%90%E5%BA%8F%E6%95%B0原子序数大于等于3的元素（即包括/wiki/%E9%94%82锂及所有比锂重的元素），而不能检测到/wiki/%E6%B0%A2氢和/wiki/%E6%B0%A6氦。对大多数元素而言的/w/index.php?title=%E6%A3%80%E6%B5%8B%E6%9E%81%E9%99%90action=editredlink=1检测极限大约为千分之几，在特定条件下检测极限也有可能达到百万分之几，例如元素在表面高度集中或需要长时间的累积时间。XPS被广泛应用于分析/wiki/%E6%97%A0%E6%9C%BA%E5%8C%96%E5%90