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分析仪表检修规程书.
分析仪表检修规程
目的:本节内容规范了分析仪表使用维护与保养规程。
适用范围:本节内容适用于激光分析仪、光谱仪、酸碱度分析仪、电导仪、可燃性有毒性气体检测器等分析仪表。其他同类仪表可作参考。
半导体激光分析仪检修规程
目的:规范半导体激光分析仪的使用、维护与保养规程。
适用范围:本节适用于FPI公司的LGA-4500型激光分析仪的维护检修规程。我厂此类分析仪表在气柜旁、氯压机厂房、乙炔清净楼等场所使用。
第一、工作原理:
LGA-4500型半导体激光吸收光谱(DLAS)技术利用激光能量被气体分子“选频”吸收形成吸收光谱的原理来测量气体浓度。由半导体激光器发射出特定波长的激光束(仅能被被测气体吸收),穿过被测气体时,激光强度的衰减与被测气体的浓度成一定的函数关系,因此,通过测量激光强度衰减信息就可以分析获得被测气体的浓度。
500激光气体分析仪概述
第二、LGA-4500激光气体分析仪特点
1,基于半导体吸收光谱技术的旁路分析产品,测量精度高、漂移小
系统是以高稳定性、低噪声的半导体激光器为光源,采用半导体激光吸收光谱 (DLAS) 技术的旁路气体分析系统。由于有效克服了背景气气体组份、粉尘颗粒、光源变化等因素对测量的影响,系统不仅拥有抗干扰能力强,检测灵敏度高的特点,还具有测量漂移小、可靠性高等优势。
2,安装于过程管道现场的旁路处理系统,可靠性高、响应速度快
基于半导体激光吸收光谱(DLAS)独特的技术优势,系统可采用热法(系统可加热至140℃)处理和分析,旁路处理装置无运动部件,可靠性高;系统环境适应能力强,可直接安装在过程管道处取样、处理和分析,响应速度快。
3,全系统防爆,支持气体温度、压力补偿
系统(包括旁路处理装置)全部采用防爆设计,可满足各类危险区域的应用要求,安全可靠。同时,系统还可选温度、压力传感模块,可对气体温度、压力进行实时监测和补偿,满足高精度测量要求。
第五、技术指标。
第三、工作条件
工作环境温度:-30℃~60℃存储温度:-40℃~80℃
正压吹扫气体:0.3 Mpa净化仪表空气或工业氮气
流量大于1升/分钟时,系统响应时间:T90≤20秒
测量气体参数
气体 测量下限 测量范围 O2 100 ppm (0-1)%Vol., (0-100)%Vol. CO2 10 ppm (0-1000)ppm,(0-100)%Vol. H2S 20 ppm (0-2000) ppm, (0-100)%Vol. HCL 0.1 ppm (0-50) ppm,(0-100)%Vol. NH3 0.1 ppm (0-10) ppm, (0-100)%Vol. C2H2 0.1 ppm (0-10) ppm, (0-100)%Vol. CO 10 ppm (0-1000)ppm, (0-100)%Vol. H2O 0.3 ppm (0-50)ppm, (0-100)%Vol. HF 0.02 ppm (0-5)ppm, (0-10000) ppm HCN 0.3 ppm (0-30)ppm, (0-1)%Vol. CH4 0.4 ppm (0-40)ppm, (0-100)%Vol. C2H4 0.6 ppm (0-60)ppm, (0-100)%Vol. CH3I 0.6 ppm (0-60)ppm, (0-100)%Vol.
第四、检修维护:
LGA-4500系列气体分析系统内置了高性能微处理器,自动化程度非常高,操作简单。由于避免了易磨损的运动部件和其他需经常更换的部件,日常预防性维护主要局限于周期性地目测检查、气路检查和清洁光学视窗,其中,空气减压控制在8-9格正压监测模块,透过率不得小于10%。(小于10%咨询厂家处理)。系统通常也无须在这些预防性维护后进行重新调整,切勿乱操作。
第五、使用的工具和劳保用品:
使用的工具:螺丝刀、活动扳手、生胶带等。
劳保要求:工作服着装,佩戴安全帽,耐酸碱手套、防毒面具等。
紫外差分分析光谱仪检修规程
目的:规范紫外差分分析光谱仪的使用、维护与保养规程。
使用范围:本节适用于FPI公司的OMA-3010光谱仪的维护检修规程。我厂在HCL合成等场所使用,测HCL中游离氯含量。
一、工作原理:
OMA-3010 Cl2HCl分析仪是聚光科技针对氯碱行业特别推出的解决方案。该系统采用OMA-3000系列在线紫外光纤光谱分析仪和高耐腐预处理系统,可同时分析工业过程气中的微量Cl2和高浓度HCl,且支持自动Cl2双量程切换,能在高腐蚀性环境中长期稳定的工作。
二、OMA-3010 Cl2HCl分析仪的特点:
1,高精度微量Cl2 测量,动态量程切换同时测量HCl和Cl2,投资价值高3,预处理采用高耐腐器件和防腐设计,可靠性
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