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何謂Color Filter Color Filter 彩色的LCD需要用到彩色濾光片（Color Filter），經由控制IC的訊號處理，使得從背光源發射的強光，可利用彩色濾光片的處理，表現出彩色的畫面。 彩色濾光片之製作是於玻璃基板上，將紅、綠、藍三原色之有機材料，製作在每一個畫素之內。 正/負型光阻 OC製造流程 MVA 製程 MACRO外觀檢查 BM特性量測 RGB色度量測 RGB特性量測 II RGB 特性量測 I ITO規格量測 RGB-穿透率 Photo Spacer 規格量測 Photo spacer CF不良簡介 白缺陷： 漏光(RBM欠陷、RGB色剝、針孔、圖形刮傷等) 黑缺陷： 異物(RBM殘留、Particle、RGB光阻異物等) Mura缺陷： Mura(直/橫 Mura、黑Gap Mura、ITO色不均等) 白缺陷類-BM欠陷 白缺陷類- RBM額緣針孔 白缺陷類- RBM膜面線刮 白缺陷類- R漏光 白缺陷類- 圓暈形色剝 白缺陷類- R透明異物 黑缺陷類- RBM光阻異物 黑缺陷類- R光阻異物 黑缺陷類- Lip光阻異物 黑缺陷類- 黑色異物 黑缺陷類- 纖維異物 黑缺陷類- 散佈金屬異物 何謂Mura 放射狀Mura 丘Mura Pin Mura 直 Mura 橫 Mura 風刀 Mura I 風刀 Mura II 山水畫 Mura 波浪S型 Mura 震動(短邊) Mura 背面輪痕 光阻殘留 BM光阻異物特徵： 從反射光中較易看出，如果從透射光去看可以看見開口部有異物，形成遮光現象。 反射光 透射光 R光阻異物特徵： 從反射光中較易看出，如果從透射光去看可以看見當站製程衍生出的不明異物，形成黑欠現象。 反射光 透射光 Lip光阻異物特徵： 從反射光中較易看出，當站製程圖形中可以看見當製程異物呈現薄狀、條狀、帶狀異物。 反射光 透射光 黑色異物特徵： 從反射光中較易看出，當站製程出現不明黑色異物，穿透光無法穿透，形成遮光現象。 反射光 透射光 纖維異物特徵： 從反射光中較易看出，圖形成線長條不規則曲線。 反射光 透射光 散佈金屬異物特徵： 從反射光中較易看出，可以看見開口部有多數小碎形異物(經分析多為金屬)，利用穿透光無法穿透，形成遮光現象。 反射光 透射光 Mura本來是一個日本字，隨著液晶顯示器在世界各地發揚光大，成為一個全世界都可以通的文字。主要是指顯示器亮度不均勻造成各種痕跡的現象。 放射狀Mura特徵： 綠燈下可見放射狀色層差異，大多為基板在減壓乾燥時由於氣流和溫度的影響引起,以致光阻表面乾燥不均。 丘Mura特徵： 類似蝴蝶翅膀狀的點不均（兩個圓形交接），可能固定或不固定點。一般固定點常發生在HP/CP及EXP平台.清潔時如果無法使用無塵布擦拭掉可以配合使用滑石清潔。 Pin Mura特徵： 為固定點位，可分為Coater Stage Pin VCD Pin HP/CP Stage Pin三種，主要為基板上光阻與pin間的溫差較敏感所致。 直Mura特徵： 依著基板長邊的橫向長條不均，帶寬較粗，Gap多等距，邊緣不明顯略帶暈開，一般為顯影機水洗段流量及壓力不均所致。 橫Mura特徵： 平行並貫穿於AB或CD或EF Panel，不論寬窄及位置，且為獨立之線條，則定義為橫條狀Mura。 風刀Mura特徵： 全面性的斜向條紋，方向與截角方向垂直，但如果經過PS MVA-LINE則會平行方向(與風刀layout有關) ，主要為風刀阻塞壓力異常所致。 風刀Mura特徵： 全面性的斜向條紋，方向與風刀吹出方向平行，大多與風刀流量不足有關。 山水畫Mura特徵： 與古代山水畫相似，多以全面性為主，此為顯影液效能低下有關，多發生在顯影液交換時發生。 波浪狀S型Mura特徵： 多以一條或二條S型(細線)貫穿到底為主，大多與顯影Nozzle堵塞有關，導致顯影不良發生，利用簡易Macro空氣槍清潔後OK。 震動(短邊)Mura特徵： 依著基板短邊的縱向長條密集不均，gap等間距。一般是Coater Slider振動引起。 背面Mura特徵： 於基板背面出現數條平行且帶膠狀物的輪痕，大多與傳動機構之傳動輪受損老化有關。 * CF制程简介 中小二期工程部 雷清芳 簡報大綱 液晶顯示器的基本構成元件 彩色濾光片的結構 CF製程介紹 CF不良简介 1.TFT LCD是由兩片玻璃所組成，上端是CF ，下端是TFT，中間夾著一層液晶，再搭配偏光板、背光板及驅動電路等元件，形成為一顯示器模組。 Glass CF TFT-LCD面板剖面圖 液晶 Glass 偏光片 背光燈管 驅動IC板 TAB IC TFT 偏光片 液晶顯示器的基本構成元件 R G B 彩色濾光片