丝网印刷学习报告..doc

第一个月份设备部学习报告 组别名称：MetX 组 报 告 人： 阳 恒 工 号： 完成时间： 目 录 第一章 公司电池片各站制造工艺基本流程概述 ...........4 1.1Intex工艺基本流程概述 5 1.1.1 各种化学药品的基本作用 7 1.2Diffusion工艺基本流程概述 11 1.2.1 各种化学药品的基本作用 13 第二章 METX设备基本流程及操作面板概述 17 2.1 METX设备备各部件描述及作用 2. 2 MetX操作面板基本概述及各键作用概述 25 第三章 MetX 网板及刮刀调整步骤及描述 50 3.1 网板及刮刀安装步骤概述 50 3.2 Snapoff/Floodingbar/Beforeland参数调整概述 52 第四章 学习心得……………………………………………………………………53 第一章 公司电池片各站制造工艺基本流程概述 RENA InTex工艺基本流程概述及药品的基本作用 （一）蚀刻制绒的目的: 去除切割损伤层和形成粗糙的吸光表面. （二）RENA InTex工艺基本流程： 开门 wafer放入片盒 Lane5 （三）化学药品的基本作用： 绒面蚀刻原理: 1.单晶硅碱溶液蚀刻 Si+2NaOH+H2O →Na2SiO3+2H2 ↑ 流程为: KOH(NaOH)+IPA etch(60-90 ℃)àDIW(去离子水)洗净àHF去除氧 化层à热DIW洗净à热风吹干 多晶硅酸溶液蚀刻 Si+HNO3+HFàH2SiF6+HNO2+H2O+H2 ↑ 流程为: HNO3+HF+(CH3COOH) etch(5-20 ℃)àKOH中和àDIW(去离子水)洗 净àHCl去除金属离子àDIW洗净à热风吹干 二，2Diffusion工艺基本流程概述及药品的基本作用 扩散制程目的:形成PN结. （二）Diffusion工艺基本流程 4个 炉管（加温800℃设定821〈30m 15sml） 4个炉管 （至810℃5m N2 10sml） 硅片 石英晶舟 炉管（850℃10sml N2） 炉管（850℃稳定1分钟） 炉管（N 2+POCL31.4sml 8m 8smlN2 0.35smlO2） P和SiO2 炉管（850℃ 9smLN2 1smLO2 5m） P驱入硅片 炉管（降温至830℃30smlN2） unload boat 700℃ （二） 化学药品的基本作用： 预沉积 4POCl3+3O2à2P2O5+6Cl2(800-900 ℃) 磷驱入 2P2O5+5Sià4P+5SiO2(850-950 ℃) 第二章 设备基本流程及操作面板概述 2．1 METX设备基本流程概述 设备各部件描述及作用 1，名称：robot ，机械手 2，作用：抓取前一个位置上的wafer,放到下个位置 名称：真空sensor 作用：在不同的位置有不同的作用，在这是检测PP上的工作状态，PP上有wafer时红灯黄亮。 调整方法：现将检测真空器产生真空并吸住wafer，按压调整按钮一下（10秒），带指示灯红绿交替时，在红灯亮时按下按钮，选择红灯亮，此时红灯一闪一闪时，再按住按钮，直到sensor指示灯不亮。即完成调整。 名称：超声波反射开关sensor（ SICK UC4型)