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微电子学概论复习文档剖析
绪论
画出集成电路设计与制造的主要流程框架。
集成电路分类情况如何?
微电子学的特点是什么?
微电子学:电子学的一门分支学科
微电子学以实现电路和系统的集成为目的,故实用性极强。
微电子学中的空间尺度通常是以微米(?m, 1?m=10-6m)和纳米(nm, 1nm = 10-9m)为单位的。
微电子学是信息领域的重要基础学科
微电子学是一门综合性很强的边缘学科
涉及了固体物理学、量子力学、热力学与统计物理学、材料科学、电子线路、信号处理、计算机辅助设计、测试与加工、图论、化学等多个学科
微电子学是一门发展极为迅速的学科,高集成度、低功耗、高性能、高可靠性是微电子学发展的方向
微电子学的渗透性极强,它可以是与其他学科结合而诞生出一系列新的交叉学科,例如微机电系统(MEMS)、生物芯片等
列举出你见到的、想到的不同类型的集成电路及其主要作用。
集成电路按用途可分为电视机用集成电路、音响用集成电路、影碟机用集成电路、录像机用集成电路、电脑(微机)用集成电路、电子琴用集成电路、通信用集成电路、照相机用集成电路、遥控集成电路、语言集成电路、报警器用集成电路及各种专用集成电路。集成电路(integrated circuit)是一种微型电子器件或部件。采用一定的工艺,把一个电路中所需的晶体管、二极管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起,制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上,然后封装在一个管壳内,成为具有所需电路功能的微型结构;其中所有元件在结构上已组成一个整体,使电子元件向着微小型化、低功耗和高可靠性方面迈进了一大步。可以不夸张地说,没有微电子技术的进步,就不可能有今天信息技术的蓬勃发展,微电子已经成为整个信息社会发展的基石。器件的特征尺寸越来越小
什么是半导体?
金属:电导率106~104(W?cm-1),不含禁带;
半导体:电导率104~10-10(W?cm-1),含禁带;
绝缘体:电导率10-10(W?cm-1),禁带较宽;
半导体的特点:
(1)电导率随温度上升而指数上升;
(2)杂质的种类和数量决定其电导率;
(3)可以实现非均匀掺杂;
(4)光辐照、高能电子注入、电场和磁场等影响其电导率;
硅:地球上含量最丰富的元素之一,微电子产业用量最大、也是最重要的半导体材料。硅(原子序数14)的物理化学性质主要由最外层四个电子(称为价电子)决定。每个硅原子近邻有四个硅原子,每两个相邻原子之间有一对电子,它们与两个原子核都有吸引作用,称为共价键。
化合物半导体:III族元素和V族构成的III-V族化合物,如,GaAs(砷化镓),InSb(锑化铟),GaP(磷化镓),InP(磷化铟)等,广泛用于光电器件、半导体激光器和微波器件。
/受主、P型/N型半导体(课件)
掺杂:电子摆脱共价键所需的能量,在一般情况下,是靠晶体内部原子本身的热运动提供的。常温下,硅里面由于热运动激发价健上电子而产生的电子和空穴很少,它们对硅的导电性的影响是十分微小的。室温下半导体的导电性主要由掺入半导体中的微量的杂质(简称掺杂)来决定,这是半导体能够制造各种器件的重要原因。
施主:Donor,掺入半导体的杂质原子向半导体中
提供导电的电子,并成为带正电的离子。如
Si中掺的P 和As(最外层有5个价电子)
受主:Acceptor,掺入半导体的杂质原子向半导体中
提供导电的空穴,并成为带负电的离子。如
Si中掺的B(硼)(最外层只有3个价电子)
N型半导体:n大于p(如在硅中掺入五价杂质)
P型半导体:p大于n(如在硅中掺入三价杂质)
能带、导带、价带、禁带(课件)
半导体晶体中的电子的能量既不像自由电子哪样连续,也不象孤立原子哪样是一个个分立的能级,而是形成能带,每一带内包含了大量的,能量很近的能级。能带之间的间隙叫禁带,一个能带到另一个能带之间的能量差称为禁带宽度。
价带:0K条件下被电子填充的能量最高的能带
导带: 0K条件下未被电子填充的能量最低的能带
禁带:导带底与价带顶之间能带
带隙:导带底与价带顶之间的能量差
半导体中的载流子、迁移率(课件)
半导体中的载流子:在半导体中,存在两种载流子,电子以及电子流失导致共价键上留下的空位(空穴)均被视为载流子。通常N型半导体中指自由电子,P型半导体中指空穴,它们在电场作用下能作定向运动,形成电流。PN结,为什么会单向导电,正向特性、反向特性
PN结:在一块半导体材料中,如果一部分是n型区,一部分是p型区,在n型区和p型区的交界面处就形成了pn结
载流子漂移(电流)和扩散(电流)过程保持平衡(相等),形成自建场和自建势在PN结上外加一电压 ,如果P型一边接正极 ,
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