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BDD电极的制备及其特性的研究摘要本篇论文使用了热丝化学气相沉积法(HFCVD)制备掺硼金刚石(BDD)膜电极,接着对掺硼金刚石薄膜的生长特性进行深入的研究和仔细的分析。然后我们对制备获取的掺硼金刚石电极,采用SEM、Raman光谱、XRD等手段表征了掺硼金刚石的微观形貌及其结构,并对BDD电极的Hall效应分析、BDD电极的充放电性能分析、 BDD电极的阻抗分析、BDD电极的动力学分析和用循环伏安法对BDD电极的电势窗口分析。通过实验表明:这次实验制成了质量较好的掺硼金刚石膜电极。然后对其进行电化学性能的测试发现其的比电容比较大,可用来做优良的电极材料。关键词:掺硼金刚石HFCVD电化学Hall效应Synthesis and Properties of Boron-doped Diamond FilmABSTRACTThis paper uses a hot filament chemical vapor deposition (HFCVD) Preparation of boron-doped diamond (BDD) film electrode, then on boron-doped diamond thin film growth characteristics of in-depth research and careful analysis. Then boron-doped diamond electrode preparation we get, using SEM, Raman spectroscopy, XRD and other means to characterize the microstructure of boron-doped diamond of its structure, and studied the Hall effect analysis BDD electrode sheet resistance BDD Electrodes, BDD electrode impedance analysis, dynamic analysis BDD electrodes and electrode potential window analyzed by cyclic voltammetry.Experiments show: the experiment is made of good quality boron-doped diamond film electrodes. And then found its specific capacity is relatively large, it can be used for its excellent electrochemical properties of the electrode material testing.Key Words:Boron-doped diamondHFCVD Electrochemical Hall effect目录第一章绪论11.1 金刚石的晶体结构11.2 金刚石的性质及应用21.3 掺硼金刚石的应用21.4 BDD电极的性质及应用31.5 本文的工作内容5第二章实验部分72.1 设备介绍72.1.1 气路系统72.1.2 真空系统72.1.3 水循环系统72.1.4 电源系统82.1.5 偏压电源系统82.2 BDD电极的制备工艺82.3 BDD电极的电化学分析方法11第三章掺硼金刚石膜的生长特性研究133.1 BDD的生长速率的影响133.2 BDD电极扫描电子显微镜(SEM)分析133.3 BDD电极的Raman光谱分析143.4 BDD电极 X射线衍射(XRD)分析15第四章掺硼金刚石膜的电化学特性研究174.1 BDD电极的HALL效应分析174.2 BDD电极的充放电性能分析174.3 BDD电极的阻抗分析184.3.1 交流阻抗法184.3.2 阻抗分析184.4 BDD电极的动力学分析194.5BDD电极的电势窗口分析204.5.1 循环伏安法204.5.2 电势窗口分析20第五章总结23参考文献24致谢26第一章绪论1.1 金刚石的晶体结构金刚石被称为钻石,是一种无色晶体,它是由碳元素组成,为目前已知最硬物质。金刚石排列建立在其三维有序的情况下的,而最关键的是在其能够让每个方向都有能够承受力的能力应该是四个以正四面体角分布范围的共价键结合,结合上其适当的共价键结合强度,刚好将每个碳原子稳定的固定在相应的位置上。原子晶体包含很多,金刚石晶体为其中典型一种,碳原子是构成这种晶体的基础。金刚石共价键的形成方式,每一个碳原子都以sp3杂化轨道与4个
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