CDS-(中央供酸系统).pptx

CDS (中央供酸系統) Center Chemical Dispense System Prepared by：Date：CDS ：系统目的供应高纯度化学品以清洗芯片上之杂质、微粒子供应高纯度化学品以蚀刻芯片图案供应高纯度化学品以显影芯片图案供应高纯度化学品以为化学气相沉积前置反应物供应高纯度化学品以研磨芯片供应高纯度化学品以清洗制程设备零配件可不可以直接引作工艺使用??客戶需求:N2ChemicalChemical温度、压力、流量、方向、位置…温度、時间、浓度…化学品之种类与用途(一)酸性:腐蚀性:H2SO4,HCl,HNO3,HF,H3OP4...毒性:HF,HNO3,Poly-Mix,BOE...碱性:NH4OH,KOH,Developer...有机溶剂易燃液体:IPA,Acetone,NBA,光阻液...腐蚀性有机溶剂:EKC,EBR,HMDS...氧化性:HNO3,H2O2...化学品之种类与用途(二)系统基本要求操作安全：腐蚀性、毒性、耐压、防爆之考虑化学品零污染：与化学品接触部份完全与化学品兼容微粒子控制：过滤器循环过滤满足最大需求流量：高浓度化学品如H2SO4、 H3PO4自动控制操作运转：系统单元与机台界面自动化取样分析：系统、管路之粒子数、金属离子取样分析泄漏警报：侦测泄漏及紧急关闭系统(EMO)系统诊断：Pump、Filter 、Valve运转时数维修保养管路 Auto Purge/Flush 功能化学品用量统计化学品供应质量要求系统流程图(一) Tee Box化学槽车充填衔接站将化学品由槽车以N2加压直接输送至TankVMBTTool-1Storge Tank12m3VMBTTool-2CCBCDUVMB6m3TTool-3适合使用量较大之化学品,如H2O2,H2SO4等将化学品经循环过滤,再经N2或Pump加压输送至有需求之生产机台内VMB可依实际用量需求选择使用Tool-4Tote1m3适合使用量中等之化学品,如HF,H3PO4等SSampling Box将化学品经管路分配至不同生产机台适合使用量较小之化学品,如BOE,HNO3等200LDrum系统流程图(二) 启动CDU 循环过滤后，同时由OCP供应GN2，打开VMB内气动阀，将化学品供应至TOOLSCADA ComputerGN2主管路循环过滤 25”后供酸TOOL机台OCPCDUHUBT-BOXVMB加强讯号泄漏警报供酸CHEMICAL LINEGN2 LINESIGNAL LINE系统流程图(三) OCP SideTool SideRequest+24VStopEMOReadyTrouble1.当机台需求化学品时,传送Request讯号给OCP．2.OCP收到讯号后,会先检查CDU是否Ready供应 若是，则回传Ready讯号．若否，则回传Trouble讯号3.机台端EMO被压下时，则停止供应化学品．Chemical 输送方式：Chemical 供酸方式（1）：桶槽供酸Chemical 供酸方式（2）：槽车供酸CDS 设备布置：设备位置：洁净室：1. 使用点2. VMB阀分支箱)~POU(使用点)机台操作控制介面电控程式连结高架地板1. CDS~VMB管路2. VMB 需求3.监控线路4. 漏液传感器Utility Sub FAB1. 管路2. 连接线裝置3. VMB, Tee Box 裝置4. 管路连接 (CDS~VMB)5. 管路连接 (VMB~POU)系统配置方式：Pump系統 – 日需求TANK用量： 80~200L/Day 使用量：较少 利用pump或压送的方式系统配置方式：压力输送系統 – 日需求TANK用量： 300~4000L/Day 使用量：较多 利用pump或压送的方式系统配置方式：Pump系統 – 日需求TANK用量： 4000L/Day以上 利用压送的方式系统配置方式：Pump系統 – Pump A系统配置方式：Pump系統 – Pump B With day tank系统配置方式：Pressure Type– Pump A系统配置方式：Pressure Type– Pump B With day tank系统配置方式： Tank Lorry Type4000L/Day以上CCB流程图GN2linetStorageTankCDU充填槽车CDU之流程图(型一)CDAinletGN2inletOutletTransferFilterSupplyFilterPumpDrumTankDay TankCDU之流程图(型二)PumpSupplyFilterOutletTrans/RecFilterTankDrumTEE-BOX 构造主管路主管路1.箱体以PP制成2.CPVC外盖3.箱体与外盖间以 O