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提高精密度及准确度 1、背景校正 由于基体的原因，分析线的强度通常被加上一个变化的背景信号，在没有达到需要基体校正的情况下，背景校正非常补偿了背景的漂移。 背景的校正是通过峰位置峰值强度减去背景信号进行。 背景的强度通过线性或二次插值法进行测量，对于插值模式“both linear”，背景水平是通过插值法计算的线： IBg,1，IBg,2是分别为左右背景的强度。也可以是样品中本身具有的元素。 通常在进行背景校正时，可以采用一点或两点校正。当测量波长两端的背景比较平坦时，可以采用一点校正，背景位置在离波长位置不远的地方。当波长两边的背景不是等高，或者两边背景不太规则时，应该采用两点校正。其中，两点校正又分为仿样函数校正、多项式校正。就多项式而言，可以是0次，也可以是一次（线性），还可以是多次。其中0次是将左右背景平均。一次就是上述所讲的插值。 参考线 参考线是用于提高测量的精密度和准确性，所有被分析线的强度都除以参考线的强度，这样，可以减少漂移的影响。参考线可以是加入样品中的元素，也可以是样品中本身具有的元素。需要注意的一点是，参考线不能被样品中其它分析线干扰。 所有线与参考线的强度比通过下式进行计算： 基体校正 不仅内标元素能做参考线，样品中某一组分也能做为参考线。这些组分往往是含量较高或基体元素。然而，标准、样品中的基体含量往往是不一样的，元素的含量检测在下列情况下才能进行检测。该情况下，元素的含量不是强度比的函数，而是浓度比是强度比的函数。可以通过线性含量进行计算，并且该线性函数的a0可以忽略不计。 为了检测基体元素的含量，就需要知道基体元素的含量。含量的测量通过所有含量总和被告知的边界微分方程来获得。总和被称为矩阵合。 当对元素浓度进行校正时，可以把元素引入矩阵合中。对浓度比校正时，如果样品、标准中基体元素的浓度是恒定的，才能把元素引入矩阵合中。否则，就会出现很小的偏差。 下面，将介绍用于基体校正的公式。 首先，定义如下矩阵合： 其中：为引入矩阵某一元素的浓度，其是作为浓度进行拟合的。为引入矩阵中矩阵分析的含量，其作为浓度比进行拟合。是基体元素的含量。矩阵合及矩阵分析的含量必须预先知晓。采用%表示单位。 用于校准的浓度比以下列公式进行计算： 基体浓度在回归过程中以下式自动计算： 校准方程为： 其中，IM基体元素的测量强度，a0被忽略。作为浓度校正时，被引入矩阵元素的校正方程为： 校正后，基体元素的含量通过下式进行计算： 因此，以浓度比进行校正时，矩阵分析的含量为： 标准化 由于参数的漂移，用校正曲线测量浓度的准确度会恶化，为了不重新校正，可以使用两个叫标准化标准的样品对强度进行校正。用于标准化的标准中，应包含所有被测元素的范围。标准化标准可以是用于校正的标准，一旦两个标准被测量，将计算出斜率和截距。这两个将对测量的强度进行校正，从而是测量结果如同作过校正一样。斜率和截距将用于其它测量强度： 除强度外，强度比也可以采用该方式进行校正。斜率为1，截距为0，表明自上次校正后，强度没有发生变化。由于两参数是同原始校正曲线进行比较获得，所以，标准化不应该太频繁。 具体算法为：H=a（0）+a（1）*h T= a（0）+a（1）*t 所以 a（0）=（T*h-H*t）/（h-t） a（1）=（H-T）/（h-t） 其中，H、T为标准化标准的理论强度，h、t为实际测量的强度，a（0）为截距。A（1）为斜率。 动态测量校正 在动态测量校正中，控制样品在未知样品测量之间进行测量，在控制样品两次测量之间，插入的强度值是时间的函数，这样就能计算出一个校正因子： 控制样品的含量通过下列公式能被规范到确认含量。 最终校正值表示为： 插值法 当使用插值法进行校正时，每一个测量过程中，被测样品的浓度被包含于一对高低样品之间，这样能优化分析的准确性。 低浓度插值标准首先测量，接着测量未知样品，最后是高浓度标准。如果需要另外的测量周期，则测量未知样品，然后是低浓度样品。当需要五个测量周期时，按如下过程进行测量：BL－U－BK－U－BL－U－BK－U－BL－U－BK。 其中，BL是低浓度标准，BK是高浓度标准，U是未知样品。 一个测量周期可包含多个单次测量，这主要取决与所使用方法中的参数设置。未知样品浓度按下式进行计算： 其中，为低浓度标准的分析浓度 为高浓度标准的分析浓度 为低浓度标准的分析强度比 为高浓度标准的分析强度比 为试样强度比