Cadecn软件绘制版图一些研究.doc

Cadence软件绘制版图的一些研究 高锋 （上海电子信息职业技术学院 电子工程系 上海 201411） 摘 要：本文主要是在本人学习半导体集成电路版图这门课程中，对绘制版图环境的建立及对绘制完成的版图进行验证等方面内容的一些粗浅的见解，希望能得到资深人士的批评与指点。 关键字 ：版图、版图环境、版图验证 some study about layout in cadene Gao Feng (Department of Electronic Engineering ,STIEI,Shanghai 201411 ,Chia) Abstract:In this paper, I study in the course of semiconductor integrated circuit layout, the layout of the environment to create and draw on the drawing to verify completion of the territory of the other aspects of some shallow insights, hoping to get senior members of the criticism and advice. Keywords: layout, layout environment, layout verification Cadence 是CADENCE公司生产的集成电路设计产品的总称，属于目前世界上占垄断地位的几个优秀的EDA软件之一，它在仿真、电路图设计、自动布局布线，版图设计及验证 等方面都占有绝对优势，尤其是Cadence提供Virtuoso版图设计及验证工具的强大的功能是其它电子设计自动化Electronic Design Automation）工具无法比拟的，所以一直以来受到广大EDA工程师的青睐。所以本文就对Virtuoso环境的建立及Dracula设计验证等方面做些详细的介绍。 建立版图环境 版图的设计是集成电路设计中的重要环节，是把每个元件的电路表示转换成集合表示，同时，元件间连接的线网也被转换成集合连线图形，与电路设计不同的是版图设计必须考虑具体的工艺实现，因此，使用Virtuoso就是采用一定具体工艺的前提下，一般是某个公司的*.tf文件，它是对绘制版图采取工艺的一些约束限制，里面详细规定了比如说有源区（active）、P注入（pim）等部分规则的严格规定，也就是我们常说的设计规则。每个公司表示方法不一样但是采取的同种工艺设计出来的版图是通用的。 选好工艺后我们用绘制一个反相器的版图的环境建立为例来说明版图系统的设置。 建立版图库 使用library manager。首先，建立一个新的库myLib由于我们要建立的是一个版图文件，因此我们在技术文件（technology file）选项中必须选择compile a new tech file,或是attach to an exsiting tech file。这里由于我们要新建一个tech file，因此选择前者。这时会弹出load tech file的对话框，如图1所示。 图1 窗口 在ASCII Technology File中填入csmc1o0.tf即可。接着就可以建立名为inv的cell了。为了完备起见，可以先建立inv的schematic view和symbol view，（其中pmos长6u，宽为0.6u。nmos长为3u，宽为0.6u。model 仍然选择hj3p和hj3n）。然后建立其layout view，其步骤为：在tool中选择virtuoso－layout，然后点击ok。 绘制inv的准备工作 首先，library manager中打开inv这个cell的layout view。即打开了virtuoso editing窗口如下图2所示。 图2 版图绘制窗口 存放版图的库必须是工艺库或附在别的工艺库上的库，否则。用隐含的库将没有版层，即LSW 窗口是空框，无法画图。因此，在设计版图前必须先建立工艺库。 LSW视图的功能： 可选择所编辑图形所在的层； 可选择哪些层可供编辑； 可选择哪些层可以看到。 由于我们所需的部分版图层次在初始LSW中并不存在，因此下一步要做的是：建立我们自己的工艺库所需的版图层次及其显示属性。为了简单起见，以下仅列出绘制我们这个版图所需的最少版图层次。 层次名称 说明 Nwell N阱 Active 有源区 Pselect P型注入掩膜 Nselect N型注入掩膜 Contact 引线孔，连接金属与多晶硅/有源区 Metal1 第一层金属，用于水平布