第5章_GMP设计简述.ppt

5.1 GMP与车间设计 一、GMP对制药生产硬件的要求 1. 厂址选择要适宜，厂区规划要合理，生产、行政、生活和辅助区域不得互相妨碍，厂区的生产环境整洁，路面平整。 2. 厂房按生产工艺流程及所要求的空气洁净级别合理布局，同一厂房内以及相邻厂房之间的生产操作不得相互妨碍，并有防止昆虫及动物进入的设施。 3. 厂房设计时，应考虑便于进行清洁工作，洁净区的内表面应平整光滑、无裂缝、接口严密，无颗粒物脱落，并能耐受清洗和消毒，墙壁与地面的交界处宜成弧形或采取其他措施，以减少灰尘积聚和便于清洁。洁净室（区）的窗户、天棚及进入室内的管道、风口、灯具与墙壁或天棚的连接部位均应密封 5.1 GMP与车间设计 4. 洁净室（区）内各种的管道、风口、灯具以及其他公用设施，在设计和安装时应考虑使用中避免出现不易清洁的部位，水池、地漏不得对药品产生污染。 5. 空气洁净级别不同的相邻房间之间的静压差应大于5Pa，洁净室（区）与室外的静压差应大于10Pa，并应有指示压差的装置。洁净室（区）的温度和湿度应与药品生产工艺要求相适应。无特殊要求，温度应控制在18-26℃，相对湿度控制在45-65%。 5.1 GMP与车间设计 6. 生产青霉素类等高致敏性药品必须使用独立的厂房和设施，分装室应保持相对负压，排至室外的废气应经净化处理并符合要求，排风口应远离其他空气净化系统的进风口。 7. 药品生产车间、工序、岗位均应按生产和空气洁净度级别的要求制定厂房、设备、容器等清洁规程，其内容应包括：清洁方法、程序、间隔时间、使用的清洁剂或消毒剂，清洁工具的清洁方法和存放地点。 8. 药品生产洁净室（区）的空气洁净度应相适应。 一、化学制药生产车间GMP设计要点 （5）精烘包车间内地面一般要易清洁、耐腐蚀的环氧自流平地面，隔墙采用轻质彩钢板，墙与墙、墙与地面、墙与吊顶之间接缝采用圆弧角处理，不得留有死角。 （6）防爆防静电处理 （7）粉碎、过筛、分装操作过程产生的粉尘具有回收价值，选用适当的回收除尘设备有效地回收粉尘，减少粉尘对大气的污染。 二、制药机械GMP设计通则 1 设备的设计与安装应符合药品生产及工艺的要求，安全、稳定、可靠，易于清洗、消毒或灭菌，便于生产操作和维修保养，并能防止差错和交叉污染； 2 设备的材质选择应严格控制。与药品直接接触的零部件均应选用无毒、耐腐蚀，不与药品发生化学变化或吸附药品的材质； 3 与药品直接接触的设备内表面及工作零件表面应平整、光滑、无死角，易清洗与消毒； 4 设备应不对装置之外环境构成污染，鉴于每类设备所产生污染的情况不同，应采取防尘、防漏、隔热、防噪声等措施； 5 在易燃易爆环境中的设备，应采用防爆电器并设有消除静电及安全保险装置； 6. 对注射剂的灌装设备除应处于相应的洁净室内运行外，要按GMP要求，局部采用100级层流洁净空气保护下完成各个工序； 7. 药液、注射用水及净化压缩空气管道的设计应避免死角、盲管。材料应无毒，耐腐蚀。内表面应经电化抛光，易清洗。 8. 设备清洗除采用一般方法外，最好配备在线清洗（CIP），在线灭菌（SIP）的洁净、灭菌系统； 9. 设备设计应标准化、通用化、系列化和机电一体化。 10. 涉及压力容器，还应符合GB150－1998“钢制压力容器”有关规定。 二、制药机械GMP设计通则 三、制药设备GMP要点 （一）完善功能设计 加大对制药生产设备的研制力度和设计能力，加强对生产制药设备的质量监控，使GMP的实施从设备源头抓起，完善功能设计是生产设备贯彻GMP的重要措施。 1. 净化功能。对设备来讲包含两层意思，即：设备自身不对生产环境形成污染以及不对药物产生污染。 2. 清洗功能。GMP提倡的设备在线清洗(CIP)功能，将成为清洗技术的发展方向，以保证药品纯度和有效性。 3. 在线监测与控制功能。GMP要求药品的生产应是连续性的且工序传输的时间最短，减少人与药物的接触及缩短药物暴露的时间，成为设备设计及设备改进中重要的指导思想之一。 4. 安全保护功能。药物有热敏、吸湿、挥发、反应等不同性质，不注意这些特性就容易造成药物品质的改变，这也是设备设计应注意的问题。 三、制药设备GMP要点 （二）制药设备的设计、制造与材质的选择 制药生产用设备应满足对原料、半成品、成品和包装材料无污染。 1. 与药品直接接触的设备应光洁、平整，易清洗或消毒，耐腐蚀；易于清洗，消毒和灭菌，便于生产操作和维修，保养，并能防止差错或减少污染。 2. GMP规定无