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新原料药中的杂质
新原料药中的杂质
1. 序言
本文件旨在为化学合成的新原料药 (这些新原料药尚未在任何地
区或成员国注册)在注册申请时,对其杂质的含量和界定的申报提供
指导。本报导原则不适用于临床研究期间所用的新原料药。本文件不
涵盖生物/生物制品、肽、寡聚核苷酸。放射性药物、发酵和半合成
产品、草药以及来源于动、植物的粗制品。
新原料药中的杂质分两个方面阐述:
. 化学方面:包括对杂质的分类和界定、杂质产生的报告、建
立规范以及对分析方法的简要讨论。
. 安全性方面:某些杂质,他们在用于安全性研究和临床研究
的新药批次中不存在和(或)实际水平高于那些批次,对这
些杂质的界定进行专门指导。杂质的阈值应确定,低于阈值
的,则不需要界定。
2. 杂质的分类
杂质可分为下列类型。
. 有机杂质(与工艺和药物有关的)
. 无机杂质
. 残留溶剂
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新原料药中的杂质
有机杂质可能会在新原料药的生产过程和 (或)储存期间有所增
加。这些杂质可能是确定的或者是未确定的、挥发性的或者非挥发性
的。它包括:
. 起始物
. 副产物
. 中间体
. 降解产物
. 试剂、配位体、催化剂
无机杂质可能来源于生产过程,它们一般是已知的和确定的。它
包括:
. 试剂、配位体、催化剂
. 重金属
. 无机盐
. 其他物质(例如:过滤介质、活性炭等)
溶剂是生产过程中使用的有机或无机液体,由于它们一般具有已
知毒性,故容易选择控制方法。
不包括在本文件中的杂质为:(1)外源性污染物(不应该存在于
新原料药中,可以用 GMP 来控制);(2 )多晶型(一种新原料药的
固态性质);(3 )对映体杂质。
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新原料药中的杂质
3. 杂质控制和报告的说明
3.1 有机杂质
申报者应对新原料药在合成、精制和储存过程中最可能产生的那
些实际存在的和潜在的杂质进行概述。该描述应对合成中的化学反
应、由原材料引起的杂质及可能的降解产物进行合理的、科学的评估,
这些讨论限制在那些根据化学反应以及相关条件下可能会产生的杂
质。
此外,申报者还应对新原料药中杂质检测的实验室研究工作进行
概述,其内容包括对研制期间和模拟上市的所有批次产品的试验结
果、以及为界定在储存期间可能产生的潜在杂质而进行人为降解试验
的结果。对模拟上市生产过程的评估将延续到首批产品正式上市。同
时应对那些模拟上市的原料批次中的杂质概况和用于研制开发过程
的原料批次中的杂质概况进行比较,任何不同之处均应加以讨论。
申报资料中还应对那些在新原料药中实际存在的表观量大于或
等于 0.1 %的杂质(例如:以原料药的响应因子计算)结构特征进行
描述。应该注意,在模拟上市生产的批次中,有反复出现的大于或等
于 0.1 %的杂质应予界定;也应同样界定在推荐的放置条件下的稳定
性研究中发现的降解产物;当某个杂质无法界定时。申报资料中应包
括对该杂质所进行的不成功的试验研究的概述。如果已尝试过鉴定
0.l %以下的杂质。那么把这些研究结果也报告进去是很有用的。
通常没有必要对表观量 0.1 %以下的杂质进行鉴定。然而,对那
些含量低于 0.1 %,可能产生不寻常功效或毒性药理作用的潜在杂质,
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新原料药中的杂质
则应力求鉴定他们。在所有情况下,应按照本原则后续章节中的要求
来鉴定杂质。尽管常规做法是将 0.05 %~0.09 %的结果修约到最接近
的值(例如0.l %),但按照本原则的目的,这些值可不被修约到 0.1%,
而且这些杂质可以不鉴定。
3.2 无机杂
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