日本富士专利应用【光学薄膜，光学补偿薄膜、偏光板、液晶显示单元及.doc

日本富士專利應用【光學薄膜，光學補償薄膜、偏光板、液晶顯示單元及自發光顯示單元 指導老師: 陳瑞堂 老師 班級:光電三甲 學號: 4A0L0074 姓名: 黃庭 背景 技術內容 相關專利文獻 【平面顯示器面板】 專利範圍 1.　一種光學薄膜，其之Re(λ)與Rth(λ)滿足以下二式：0≦Re(590)≦10 |Rth(590)|≦25 其中Re (λ)為在λ 奈米波長處之面內遲滯值(奈米)；及Rth(λ)為在λ 奈米波長處之薄膜厚度方向 遲滯值(奈米)。 2.　如申請專利範圍第1 項之光學薄膜，其中光學薄膜滿足下式(IX)：(IX)|ReMAX-ReMIN|≦3 及|RthMAX-RthMIN|≦5 其中ReMAX 與RthMAX 為1 米平方之任意切開薄膜片之最大遲滯 值(奈米)；及ReMIN 與RthMIN 為其最小遲滯值(奈米)。 3.　如申請專利範圍第1 項之光學薄膜，其中Re 與Rth 至少之一在拉伸或收縮15%以上時 顯示0 至20 奈米之變化。 4.　如申請專利範圍第1 項之光學薄膜，其中Re 與Rth 至少之一在拉伸或收縮0%以上但小 於15%時顯示0 至10 奈米之變化。 5.　如申請專利範圍第1 項之光學薄膜，其滿足下式(IV)：(IV)|Re(400)-Re(700)|≦10 及|Rth (400)-Rth(700)|≦35。 6.　如申請專利範圍第1 項之光學薄膜，其中光學薄膜係由醯化纖維素製成，此醯化纖維素 之醯基取代基均為乙醯基，其總取代程度為2.50 至3.00，且其平均聚合程度為180 至 700。 7.　如申請專利範圍第1 項之光學薄膜，其中光學薄膜包括一種滿足下式(SE-1)至(SE-3)指 定之所有要求之醯化纖維素：(SE-1)2.50≦SA+SB≦3.00 (SE-2)0≦SA≦2.5 (SE-3) 0.5≦SB≦3.00 其中SA 為乙醯基取代程度；及SB 為具有3 至22 個碳原子之經取代醯基 之取代程度。 8.　如申請專利範圍第1 項之光學薄膜，其中光學薄膜包括降烯聚合物。 9.　如申請專利範圍第1 項之光學薄膜，其中其具有25x10-13 平方公分/達因以下之光彈性係 數。 10. 如申請專利範圍第1 項之光學薄膜，其中光學薄膜之經鹼皂化表面之接觸角為55°以下。 11. 一種光學補償薄膜，其包括：Re(590)為0 至200 奈米且|Rth(590)|為0 至400 奈米之光學各 向異性層；及如申請專利範圍第1 項之光學薄膜。 12. 如申請專利範圍第11 項之光學補償薄膜，其中光學各向異性層包括聚合物薄膜。 13. 如申請專利範圍第12 項之光學補償薄膜，其係藉由將液化固體聚合物散佈且固定於如申 請專利範圍第1 項之光學薄膜上以形成層合物(其包括由液化固體聚合物之固化物質製成 之具有nx ny 關係之透明薄膜、與光學薄膜)，使層合物接受拉伸處理及收縮處理而構 成，其中nx 表示沿薄膜面內遲相軸之折射率，及ny 表示沿垂直薄膜面內遲相軸之方向 之折射率。 14. 如申請專利範圍第13 項之光學補償薄膜，其中拉伸處理及收縮處理至少之一係在高於固 態聚合物與光學薄膜之玻璃轉移溫度之溫度進行。 15. 如申請專利範圍第13 項之光學補償薄膜，其係如下製成：在將液化固體聚合物散佈及固 定於光學薄膜上之前，使光學薄膜接受拉伸處理及收縮處理至少之一；將液化固體聚合 物散佈且固定於光學薄膜上；及在完成散佈及固定後，使層合物(其包括由液化固體聚合 物之固化物質製成之具有nx ny 關係之透明薄膜、與光學薄膜)接受拉伸處理及收縮處理至少之一。 16. 如申請專利範圍第13 項之光學補償薄膜，其中層合物之拉伸處理及收縮處理至少之一係 以光學薄膜中之殘留溶劑含量為1.5 質量%以下之狀態進行。 17. 如申請專利範圍第13 項之光學補償薄膜，其中在將液化固體聚合物散佈及固定於光學薄 膜上之前，光學薄膜之拉伸處理及收縮處理至少之一係以光學薄膜中之殘留溶劑含量為 1.5 至70 質量%之狀態進行。 18. 如申請專利範圍第13 項之光學補償薄膜，其中在拉伸處理及收縮處理至少之一之後， 合物中透明薄膜與光學薄膜中之殘留溶劑含量各為1.5 質量%以下。 19. 如申請專利範圍第12 項之光學補償薄膜，其中聚合物薄膜與固體聚合物至少之一包括至 少一員選自聚醯胺、聚醯亞胺、聚酯、聚醚酮、聚芳基醚酮、聚醯胺醯亞胺、與聚酯醯 亞胺。 20. 如申請專利範圍第11 項之光學補償薄膜，其中光學各向異性層包括顯示負雙折射之聚合 物。 21. 一種偏光板，其包括至少一種選自如申請專利範圍第1 項之光學薄膜與如申請專利範圍 第11 項之光學補