xrf的原理介绍xrf的原介绍理介绍.ppt

EDXRF原理介绍与华唯XRF系列产品 大 纲 基本原理 硬件结构 核心部件 原子核 e- e- △E=E–E0 E0 E X光管产生的X ray E1 E2 X ray △E= E1–E0=Kα X ray △E= E2–E0=Kβ K L M N 物理学基础 产生X射线的机理 X射线激发所产生的分析线 原子核 e- K L M N Kα Kβ Lα Lβ Mα 特性X射线的能量 定性分析的原理 一次X射線 一次X射線 一次X射線 由元素A所构成的样品 由元素B所构成的样品 由元素A和元素B所构成的样品 元素A的螢光X射線 元素B的螢光X射線 元素A和元素B的螢光X射線 对由元素A和元素B所构成的样品进行X射线照射后,各个元素都会发生荧光X射线,但因两者所持能量强度不同,所以可以辨别。 定量分析的应用 使用荧光X射线的定量方法: 1.标准曲线法 →根据实验事实的方法 元素A含量少的样品 元素A 元素A的螢光X射線 元素A含量多的样品 含元素A越多的话，元素A的荧光X射线也越强 元素A的螢光X射線 用XRF测定元素的方法 事先测定标准物质 (已知浓度的样品) ↓ 从测定结果中求得浓度和X射线强度的关系(标准曲线) ↓ 根据标准曲线算出实际样品的浓度 一般用标准曲线法测定（经验系数法） 样品浓度 样品强度 XRF仪器构造 样 品 波形分析器 光管 探测器 滤光片 高压电源 华唯XRF核心部件介绍 高压电源 美国 Spellman X光管 国产 丹东科维 探测器 美国 Amptek X-123 软件分析方法 经验系数法 高压电源的技术参数与说明 关键技术参数：稳定性，包括： 输入电压input voltage: DC +24v DC +- 10%， 输入电流：4.0A（最大maximum） 输出电压Output voltage: 0 -50Kv @ 1mA 电压稳定性： 最大功率Maximum Power： 50W 高压电源的作用 高压电源为X光管提供供电，是保证仪器测试数据精密度与准确度的基础。我司仪器选用高性能进口高压电源来确保供电条件的最优化。 X光管结构 准直器 铍窗 高能电子束 X-ray 高压0~50KV 灯丝 钼 靶 材 X光管的寿命 X光管在使用过程中的损坏因素主要为 灯丝烧断 靶材击穿 管体内真空遭破坏 灯丝加热过程中逸出金属雾，附着铍窗，造成铍窗通过率大幅度降低 中国七、五科技攻关已经掌握了X荧光的多元素分析技术，X光管生产技术已经成熟，我司技术发源与七、五科技攻关，目前积极参于光管制造厂家的生产制造过程，设计并定制了专有型号，对上述因素进行了设计改良，充分确保X光管的高寿命。 探测器(光信号转换成电信号单元) DC 5V input X-ray 荧光 Θ=45度 铍窗 Amptek X-123 分辨率149±5eV 数据传输 探测器与前放 主放与多道脉冲处理器 探测器的技术指标与说明 最佳分辨率：149±5eV. 最高计数率：2 X 10 5 CPS 峰背比≥ 5000/1 （天/信噪比增强器） 能响曲线 1KeV ~40KeV 各类型探测器的比较 型号 SDD Si-PIN Si（Li） 是否要液氮 最佳分辨率 125eV 150eV 150eV 否 否 需要 脉冲处理系统技术指标与说明 前置放大器 主放大器 数字化多道脉冲处理器（MCA） 任何的电子电路都会造成电子漂移，产生仪器误差，以上系统可以有效的补偿漂移效应，确保仪器精确度。 成型时间 放大倍数软件根据实际应用情况自动调整。达到最佳效果 其他重要元器件 辐射防护系统 华唯公司的辐射防护系统现有两种结构 整机全铅版防护迷宫+自动保护装置 射线区域全封闭结构+自动保护装置 滤光片系统 七组滤光片自动选择系统 针对不同材质的测试对象，其激发的X荧光中带有特定的干扰杂波，必须采用特定的滤光片进行初步处理，以提高光效质量，确保良好的测试效果。华唯公司选用的七组滤光片系统是经过数万次实验的最终科技成果，具有良好的滤光及控制效果。 整机电路系统 优良的整机电路系统是精密仪器稳定性与精确度的基础保证。 华唯公司XRF内部电路设计严谨，各类屏蔽与干扰控制机件得当，安装与调试完全符合国际标准。有效的保证了数据的准确性与稳定性 数据分析软件 在XRF技术中，数据分析与处理技术最为深奥，检测样品中基材对于测试元素的干扰、相邻元素间的干扰、本底对于测试的干扰等虽经过光路控制可以得到一定程度抑制，但最终仍需通过数据分析软件，进行剔除、筛选、分析并最终得出结论。数据分析软件对于XRF的优异具有