测量系统分析第四版测量系统析第四版分析第四版.ppt

测量系统分析基础和术语 测量 对某具体事物赋予数字（或数值），以表示它们对于特定特性之间的关系。 赋予数字的过程被定义为测量过程，而指定的数值被定义为测量值。 量具（Gage) 是指任何用来获得测量结果的装置。经常是用在工厂现场的装置，包括通/止规（go/no go device)。 测量系统分析基础和术语 测量系统： 是对测量单元进行量化或对被测的特性进行评估，其所使用的仪器或量具、标准、操作、方法、夹具、软件、人员、环境和假设的集合。 测量系统分析基础和术语 参考值（Reference value)： 某一物品的可接受数值。 需要一个可操作的定义。 常被用来替代真值使用。 真值(True value) 某一物品的真实数值。 不可知且无法知道的。 测量系统分析基础和术语 位置变差 准确度（Accuracy) 与真值或可接受的基准值“接近“的程度。 在ASTM包括了位置及宽度误差的影响。 偏倚（Bias) 观测到的测量值的平均值与基准值之间的差值。 测量系统分析基础和术语 稳定性(Stability) 随时间变化的偏倚值。 一个稳定的测量过程在位置方面是处于统计上受控状态。别名：漂移（drift) 线性(linearity) 在量具正常工作量程内的偏倚变化量。 多个独立的偏倚误差在量具工作量程内的关系。 是测量系统的系统误差所构成。 测量系统分析基础和术语 宽度变差（Width variation) 精确度（Precision) 每个重复读数之间的“接近”程度。 是测量系统的随机误差所构成。 测量系统分析基础和术语 重复性(Repeatability) 一个评价者使用一种测量仪器，对同一零件的某一特性进行多次测量下的变差。 是在固定的和已定义的测量条件下，连续（短期内）多次测量中的变差。 通常被称为E.V—设备变差 。 设备（量具）能力或潜能。 系统内部变差。 测量系统分析基础和术语 再现性(Reproducibility) 不同评价者使用相同的量具，测量同一个零件的同一个特性的测量平均值的变差。 通常被称为A.V.—评价者变差。 系统之间（条件）的 误差。 测量系统分析基础和术语 GRR或量具的重复性和再现性(Gage RR) 量具的重复性和再现性：测量系统重复性和再现性的联合估计值。 测量系统能力：取决于所用的方法，可能包括或不包括时间的影响。 测量系统分析基础和术语 测量系统的统计特性 测量系统分析基础和术语 分辨力 1)测量设备能够检测并忠实地显示相对参考值的变化量。 2)所用测量器具的分辨力必须小于或等于被测参数允许误差的10%。 测量系统分析基础和术语 有效的分辨率 考虑整个测量系统变差时的数据分级大小（ndc)。 Ndc=1.41（PV/GRR）。 分辨率不足的表现 当极差图中只有一、二或三种可能的极差值在控制界限内时。 如果极差图显示有四种可能的极差值在控制界限内，且超过1/4以上的极差值为零。 测量系统分析基础和术语 敏感度(Sensitivity) 能导致可探测到的输出信号的最小输入。 测量系统对被测特性变化的感应度。 取决于量具设计（分辨力）、固有质量（OEM）、使用期间的维修，以及测量仪器与标准的操作情况。 通常被描述为一种测量单元。 测量系统变差对产品决策的影响 测量系统应有的特性 对产品控制，测量系统的变差与公差相比必须小于依据特性的公差评价测量系统。 对于过程控制，测量系统的变差应显示有效的分辨率与过程变差相比要小。根据6σ变差和/或来自测量系统的总变差评价测量系统。 偏倚、重复性、再现性、线性应是可接受的。 测量系统变差对产品决策的影响 测量系统变差对产品决策的影响 由于我们的目标是尽可能地对产品状态做出正确的决定，所以会做出以下选择： 1）改进生产过程：减少过程变差，不会生产出落在区域Ⅱ的产品。 2）改进测量系统：减少测量系统误差以减少区域Ⅱ的大小，这样，生产出的所有的产品将全部落在区域Ⅲ内，这就能减少做出错误的风险。 测量系统分析的应用和时机 应用 1）接受新测量设备的准则。 2）一种测量设备与另一种的比较。 3）评价怀疑有缺陷的量具的依据。 4）维修前后测量设备的比较。 分析时机 1）新生产的产品PV（零件变差）有不同时。 2）新量具EV(量具变差）有不同时。 3）新操作人员AV（人员变差）有不同时。 4）易损耗的量具必须注意其分析频率。 测量系统分析的准备 测量系统计划的制定 在进行测量系统分析之前，要制定测量系统分析计划。计划内容包括： 　１）确定需分析的测量系统。 　２）确定用于分析的待测参数/尺寸或质量特性。 　３）确定分析方法： 　４）确定测试环境； 　５）确定分析人员和测量人员。 　６）