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MOSFET基原理讲述

5-5 MOSFET基本原理 5-5-1 基本特性 5-5-2 MOSFET的线性压 5-5-3 线性区电流讨论 5-5-1 基本特性 1.偏置: 当栅极无外加偏压时源到漏栅电极之间可视为两个背对背相接的PN结,而由源极流向漏极的电流有反向漏电流。 当外加一足够大的正电压于栅极上时,MOS结构均将被反型,以致形成沟道(反型层建立)源栅和漏栅通过栅级电压的变化来加以调节。 5-5-1 基本特性 2 .沟道在VD,VG作用下变化情况 栅及施加一偏压,并使半导体表面反型, 若在漏极加一小电压, 电子将会由原极经沟道流向漏极(电流由漏→流) 5-5-1 基本特性 沟道的作用如同电阻 如图所示: VGVT ID与VD呈线性 5-5-1 基本特性 当漏极电压持续增加,达到VDSST ,导电沟道从O-L逐渐变窄,到y=L处,沟道宽度减小至零——这种现象为沟道夹断,沟道夹断发生的点为夹断点,此时电压为VDSST。 5-5-1 基本特性 夹断之后,ID基本不变,当VDVDSST时,夹断点左移,但夹断电压保持不变,从漏到源的ID不变,主要变化就是L的缩短,即L=L’ 5-5-1 基本特性 5-5-2线性区 1.? 线性区的假设 主要假设 (1)? 忽略源极和漏极体电阻和电极接触电阻 (2)? 沟道掺杂均匀 (3)?? 载流子在反型层中的迁移率为固定值 (4)? 仅考虑源场电流 (5)?长沟道近似和渐进沟道近似,垂直电场和水平电场互相独立 ? 5-5-2线性压 εx---垂直反型层 均匀的电场可看作 εy---产生漏源电流 内在电势可写作: 5-5-2线性区 2.线性区的电流公式: 5-5-2线性区 y=0→y=L V=0 →V=VD 5-5-3 线性区电流讨论 1.耗尽层宽度与体电荷QB 在临界反型之前,耗尽层的宽度xdm最大 由xdm所对应的体电荷QB 5-5-3 线性区电流讨论 2.QB与沟道电压有关,有影响 代入电流式,然后积分 5-5-3 线性区电流讨论 3.电流式比较 由图说明简与非简是有区别的 简化对电流设计应用方便 对线性区的电流进行对比 ①在MOS工作的线性区,简与非简式渐靠近 ②简化电流较偏大,电压值较地靠非正饱和区差距过大 ③简化式对电流设计应用方便 复习思考题 第一章 1试画出金属及半导体相对真空能级的能带图,并标出有关电势符号加以说明? 2当金属-半导体紧密接触以后,如何建立统一的费米能级Ef? 说明Фb=Φm-Χs的物理意义是什么? 3什么是“肖特基势垒”?写出其表达式?它是对什么区域电子而言? 4金属-半导体结的正偏如何? 5金属-半导体结的反偏特性如何? 6肖特基势垒qΦb是金半结什么偏置下建立的? 11写出金半的正偏、反偏及总的电流表达式? 12什么是SBD二极管?有何特点?举例IC及高频方面的应用? 13什么是欧姆接触(非整流的MS结)? 14画出N型半导体或P型半导体形成欧姆接触能带图,并作说明。 15为什么说实际欧姆接触仅是一种近似?电流机制是什么? 16获得良好的欧姆接触的工艺措施是什么? 17SBD二极管“周边效应”有何影响? 18 SBD二极管的改进结构如何? 第二章 1什么是PN结?什么是平衡PN结? 2画出平衡PN结的能带图,并说明PN结平衡的标志是什么? 3平衡结的空间电荷区是如何建立的,作图说明。 4作图说明PN结空间电荷区中的电荷分布情况。 5泊松方程是描述什么情况? 6PN结P型中性区和N型中性区中的电势表达式如何? 7试推导平衡PN结的自建电势ψ0表达式。 8什么叫单边突变结?什么样的结可作单边突变结近似? 9何为“耗尽近似”?写出“耗尽近似”下的PN结中性区的泊松方程。 10试证明单边突变结的势垒区最大电场式。 11试证明单边结势垒区的电子电势能表达式。 12关于非平衡结. 14试作图说明外加电压对费米能级的影响。 17试写出平衡结边界上少子浓度表达式。 18证明非平衡结正偏小注入条件下少子浓度表达式。 19画出正偏PN结少子注入分布图象并作说明。 20试从空穴(少子)的扩散方程推导正偏下的空穴电流式。 21推导电流公式时采用了哪些假设条件? 22PN结的电流中少子电流于多子电流是如何转换的? 23试画出PN电流的分布图象(包括少子与多子的电流)? 24试画出PN结的I—V曲线,并从电流式进行说明? 26试从PN结正偏电压大小(即电流水平高低)分析I—V曲线. 27重掺杂的PN结PN结能带有何影响? 28隧道结的高掺杂区的杂质浓度在什么水平? 29

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