新型液体光致抗蚀剂的研究与其在辊筒印花上的应用.pdf

新型液体光致抗蚀剂的研究 与其在辊筒印花上的应用 吴建华杨成龙郭敬涛 上海中大印染材料工业有限公司 摘曩：本文时光致抗蚀剂做7简要的介绍，回顾7它在国内外的发展情况，并对液态光致抗蚀 剂的组成、性能和使用方法及其在辊简印花上的应用进行T详细的探讨。 一前育 美KPR胶)、聚肉桂叉丙=酸乙二醇酯聚酯胶、 光致抗蚀荆，在短时间的光照(主要是紫外 环化橡胶型(相当于OMR一83胶)和重氮萘醌 光)下，能发生光化反应，使得这类物质的溶解 磺酰氯为感光荆主体的紫外正型光刻胶(相当于 AZ一1 性、熔融性、亲台性，在曝光后发生明显的变化， 350)。近年来，部分单位在平板显示器 利用这些性能在曝光前后发生的明显的变化．主要 (FPD)用光刻胶方面进行了大量工作，巳研制 控制光照区域就可得到所需几何图形的保护层“J。 成功并规模生产出液晶显示器(LCD)专用正型 按光化反应原理和显影原理，光致抗蚀剂可分为正 光刻胶。 性和负性，正性抗蚀荆曝光后发生光分解反应， 三液态光致抗蚀剂的研究 分解为可溶性物质；负性光致抗蚀剂曝光后发生光 3．1液态光致抗蚀剂的构成 交联反应．成为不可溶性物质。它们广泛应用于 紫外光固化涂料，即液态光致抗蚀剂，由活 微细图形加工，制造半导体器件，集成电路及印 性齐聚物、活性单体、颜料、添加划和光敏引发 刷电路板，是一种感光性高分子新材料。 剂组成。其主要成膜物质齐聚物必须具备不饱和基 二 光致抗蚀荆的发展 团t活性稀释剂单体亦必须具备不饱和基团参与反 随着电子器件不断向高集成化和高速化方向发 应，最终成为漆膜的一部分。在某些配方中。可 展，对微细图形加工技术的要求越来越高，为了 完全由活性单体作为成膜的主要成分口】。 适应亚微米微细图形加工的要求，国外先后开发了 3．1．1齐聚物的选择 36 6 nm)、i线(3 g线(4 511m)、深紫外、准 可根据用途要求来选择作为主要成膜物并决定 分子澈光、化学增幅、电子柬、x射线、离子 涂膜性能的齐聚物。一般来说，以环氧丙烯酸为 束抗蚀荆等一系列新型光刻胶。这些品种较有代表 主的涂膜光泽好、硬度高，但易粉化。丙烯酸化 性的负性胶如美国柯达(Kodak)公司的KPR、环氧树脂结构式见图l。 KMER、KLER、KMR、KMPR等l联合碳化学 oH3 (UCC)公司的KT[系列1日本东京应化(Tok) ％一rrCH：一@一卜《} 8 h 由， 公司的TPR、SVR、OSR、OMR}合成橡胶 一O--OH，--CH—cH，～O—c--CH=cHi 2 2 (JsR)公司的ClR、CBR系列，瑞翁(ZeOB) 。占H l 公司的ZPN系列，德国依默克(E．Merk)公司的 图1一种简单的丙烯酸化环氧树脂齐聚物 Solect等。正性胶如：美国西帕来(Shipely)公 司的AZ系列、DuPont公司的Waycot系列、日本