ITO靶材的制备与发展趋势.PDF

国玻璃 ITO靶材的制备与发展趋 ITO靶材的制备与发展趋势 向光 王友乐 广东凯盛光伏技术研究院有限公司 广东 佛山 528137 蚌埠玻璃工业设计研究院 安徽 蚌埠 233010 摘 要：文章简要介绍了ITO薄膜的特性和应用，重点对 ITO靶材的成形方法和烧结方法以 及研 究现状进行 了阐述 ，探讨 了ITO靶材制备的发展趋势。 关键词 ：ITO靶材 ；制备 ；成形；烧结 PreparationandDevelopmentTrendofIT0 Target Xiang Guang WangYoule GuangdongTriumphPhotovohaieTechnologyResearchInstituteCo．，Ltd Foshan Guangdong 528137 BengbuDesign ResearchInstituteforGlassIndustry Bengbu Anhui 233010 Abstract：Thispaperintroducestheperformance applicationofITO film briefly，describesITO targetfornfingand sinteringmethodsandresearchstatus，anddiscussesitsdevelopmenttrendofpreparation． Keywords：ITO target；Preparation；Forming；Sintering 佳成份配比为 9：1(质量 比)，在溅射靶的生产过程 1前言 中不能使用助烧剂，甚至粘结剂也尽可能不使用。 ITO溅射靶的理论密度为 7．15g／cm ，优质的成品 透明导电薄膜的种类很多，主要有 ITO、FTO、 ITO溅射靶应具有 ≥99．5％的相对密度 ，这样的靶 AZO等，其 中以掺杂 SnO 的InO，(ITO)膜性能最 材才具有较低电阻率、较高导热率及较高的机械强 佳，ITO透明导电薄膜不仅具有优 良的导电性，而且 度。高密度靶可以在温度较低的玻璃基片上溅射， 还具有优 良的光学和力学性能，对可见光的透过率 获得较低 电阻率和较高透光率的导电薄膜，甚至可 高达 95％以上，对紫外线的吸收率 ≥85％，对红外 以在有机材料上溅射 ITO导电薄膜 。 线的反射率≥80％，对微波的衰减率≥85％。同时， 溅射镀膜使用靶材的性能好坏对镀膜的品质有 ITO薄膜的加工性能极好，膜层硬度高且耐磨耐蚀 ， 很大影响，要获得高性能靶材与ITO成形工艺和烧 而且容易在酸液中蚀刻出微细的图形，因而 ITO薄 结工艺有着重要的关系。 膜近年来在薄膜 晶体管 (TFT)、平板液 晶显示 (LCD)、有机电致发光显示器件、太阳能电池和电磁 3 ITO靶材的成形工艺 屏蔽等领域获得广泛的应用 。 沉积 ITO薄膜的方法很多，磁控溅射技术因其 不同的成形工艺对 ITO粉末粒径和成形压力以 良好的可操控性、高的沉降率，是 目前发展最成熟的 及烧结温度要求各不相 同，各工艺参数的变化对 I 技术，已在工业上得到了广泛的应用。要获得高质 TO靶材密度的影响也各不相同，因此选择合适的成 量的ITO薄膜 ，制备高密度、高纯度和高均匀性的 形工艺对制得高致密高性能的ITO靶材有重要意 ITO靶材是关键 。 义。 目前，ITO靶材的成形工艺主要有压制