扩散工艺文件.doc

机密等级: 机密 磐石吉阳恒基新能源有限公司Controlled Document（受控） Confidential level: Confidential Document Title(文件名称) :  扩散工艺文件Document Number(文件编号): XY(C)-GY-02-BZ01 A/0 Revision(文件版本): A/0 Revise Date(修订日期): 2010-09-05 Prepared by(撰写者): 吴军兰 Create by which Unit(制定单位) : 工艺部 Rev.:A0 目录 1 5 2.适用范围 5 3.职责 5 4. 扩散工艺 5 4.1 扩散目的 5 4.2 工艺原理 5 4.3 工艺流程 6 4.4 操作注意点 6 4.4.1 6 4.5 工艺参数 6 4.5.1工艺（方阻） 7 5. 饱和工艺 7 6. 工艺控制 7 6.1 目标 8 6.2 8 6.2.1 参数控制指标 8 6.2.2反应及处理流程 9 7. 异常处理 9 7.1 9 7.1.1 48≤R□≤56Ω/□ 适用于工艺 9 7.1.2 适用于工艺 9 7.1.3 适用于工艺 97.1.4 R□≥63Ω/□ 适用于工艺 97.3 扩散车间的工艺异常情况及处理方法 10 7.4 返工片处理注意事项 11 8. 扩散工艺过程注意事项 11 9. 扩散车间作业规范 12 9.1 12 9.2 卫生规范 13 9.3 作业规范 13 10. 石英/SiC器件标准清洗流程 14 10.1 石英炉管清洗流程 14 10.1.1 漂洗 14 10.1.2 浸蚀 14 10.1.3 漂洗 14 10.2 SiC桨及石英器件清洗流程 14 10.3 加酸用量及操作注意事项 15 10.4 SiC桨首次使用注意事项： 15 Amendment Records Item: Date: Revision: Page: Change Description: Changed by: 1 2010-09-05 A/0 All New release 吴军兰 Rev.:A0  1.目的 确保扩散工艺处于受控和稳定的状态。 2扩散工序的工艺控制3.职责工艺，更新和修订由工艺主管工艺部。工艺部 4. 扩散工艺4.1 扩散目的 4.1.1 形成合适的PN结。 4.1.2 提高少子寿命。4.2 工艺原理PClO3液体源扩散方式，在扩散炉管内通入携带PClO3的反应气体，在高温下与硅片表面发生化学反应，实现对硅片表面的磷掺杂。反应过程如下： POCl3在高温下（600℃）分解生成五氯化磷（PCl5）和五氧化二磷（P2O5）： 5POCl3 === 3PCl5 + P2O5 通入适量的氧气O2，PCl5会进一步分解成P2O5并放出氯气（Cl2）： 4 POCl3 + 3O2 === 2P2O5 + 6Cl2 生成的P2O5在扩散温度下与硅反应，生成二氧化硅（SiO2）和磷原子： 2P2O5 + 5Si === 5SiO2 + 4P 在硅片表面形成一层磷-硅玻璃，然后磷原子再向硅中进行扩散。 4.3 工艺流程 扩散 4.4 操作注意点 设定温度(℃) 控温方式 大氮(sccm) 小氮(sccm) 氧气(sccm) 时间(s) 进舟 800 炉外单控 20000-30000 0 0 480 升温 840-855 炉外单控 20000-30000 0 0 600 -900 稳定 840-855 级联控温 20000-30000 0 0 氧化 840-855 级联控温 20000-30000 0 1000-2000 600 扩散 840-855 级联控温 20000-30000 1000-2000(1930） 1000-2000(1300) 1000-1500(1000) 推进 840-855 级联控温 20000-30000 0 1000-2000(1300) 1000-2000(1000) 降温 800 炉外单控 40000 0 0