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CMD2000系列研磨分散机

CMD2000 系列研磨分散机 研磨分散机工作原理:研磨分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转 子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重 量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿 之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用, 使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。 研磨分散机的细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如 高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的 场合。 研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。 第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所 需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。 第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径 的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要 是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细 精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重 要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学 特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验 指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用 相匹配的,因而它对制造出最终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否 满足预期的应用。 CMD2000 系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的 摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细 度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间 的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光 和结构材料,可以满足不同行业 的多种要求。 CMD2000 系列研磨分散机参数: 研磨分散机 流量* 输出 线速度 功率 入口/出口连接 类 l/h rpm m/s kW CMD 2000/4 300 9,000 23 2.2 DN25/DN15 CMD 2000/5 3000 6,000 23 7.5 DN40/DN32 CMD 2000/10 8000 4,200 23 22 DN80/DN65 CMD 2000/20 20000 2,850 23 37 DN80/DN65 CMD 2000/30 40000 1,420 23 55 DN150/DN125 CMD2000/50 120000 1,100 23 110 DN200/DN150 *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。 研磨 分散乳化 监测工作腔密封,防止漏液污染原料,接冷水机冷却平衡罐内 压力平衡罐作用: 独立冷却系统冷却机械密封机构,及冷却工作腔,防止物料温度过高。 德 国 进 口 精 密 工 作 腔 最 高 承 14000r/min 的 超 高 转 速 , 单 边 转 定 子 间 隙 0.15-0.2mm,剪切速率是国内常规设备的 5-10 倍。 CMD2000 系列管线式高剪切研磨分散机的技术优势主要体现在以下几个方面— — 1.转速相较其它厂家 3000 转左右高出三-5 倍 CMD2000 系列为立式分体式结构,通过皮带传动,并实现加速,加速比为 3:1 即正常 50HZ 频率下转速为 9000RPM,外加变频可达 140000RPM。 由此可得线速度(V=3.14*D (转子直径)*n/60) 2.磨头结构更精密并有独特设

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