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清洗刻蚀源的磁场分析.pdf
第29@第4期增w 仪 器 仪 表 学 报 Ⅷ29N04
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清洗刻蚀源的磁场分析
王穗奇束昌
西安I业大学陕西眷姆膜技术重点安验室西安710032
籀要一个离子穗中电磁场的设计好坏与否决定7这个离子源工作的好坏,为此.奉文着重丹析介绍了一个适用于请洗
和刻蚀用的大束密均匀区取发射离子束源的磁场计算、结构厦其I作原理,根据磷路理论,并利用Quickfield二维有限
元分析软件对电融场分布进行模拟.计算结果满足了离子源对电磁场的设计要求。
*键目离子谭磁场计算电场模拟
Clean Source Field
MagneticAnalysis
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AbstractIna11ionsou/xxthe field ornot dccldedthisionsouft:ework
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Oil introduceda and thett.seof
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electromagnetic d鹳ign
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electromagneticfield
electrlcfieldsimulation
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Ke57words{013magneticfield
图,它是一十高度对称的结构.主要由电磁线圈、
引言 阴极(不锈铜)、阳段(铁)及各部分承冷系统等
组成。工作气体由进气孔4进^离子源内部,沿
我]设计舶离了挥一般希望工作在低气压的 着配气盘均匀矬A离子柬潭的放电区,阳极3和
放电模式,但是在低气压低潋场[Lift)模式下. 阴极2之间存在一个几乎iE变的电磁场,原初电
放电电压对放电电流的影响比较小,而在低气压高 子在电场力和磁场力作用下蚍螺旋线形
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