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通讯用宽温高磁导率MnZn铁氧体TLD材料的研究.pdf

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通讯用宽温高磁导率MnZn铁氧体TLD材料的研究.pdf

通讯用宽温高磁导率MnZn铁氧体TLD材料的研究 李银传 (浙江天通控股股份有限公司软磁研发中心,浙江海宁314412) 摘要:由最佳配方制定出合理掺杂,并通过终烧时间和平衡氧分压的调整,把材料 的二峰啦置控制在一个理想的范围内,从而研制出具有宽温性能要求的高磁导率MnZn铁 氧体材料。 关键词:宽温高磁导率;MnZn铁氧体;氧化物法;二峰;平衡氧分压 1前言 由于市场的发展,要求高磁导率铁氧体材料初始磁导率和居里温度高,同时温度特性 要好。综合业务数据网(ISDN)市场的迅速扩大,需要大量的室外设施,要求其中的脉冲 变压器即使在很低的环境温度(一20℃)时仍能保持较高的磁导率,这就要求材料的u·T D 曲线平缓度即宽温特性也有了更高的要求,T K公司于1998年相应成功研发出H5C4 材料,并列入1999年产品目录上。NICERA公司对ui_10000的材料改进更有宽温特色, 其wT-10材料--23℃和23℃要求不小于9000,比温度系数也很小。 为适应市场发展的要求,天通公司2002年研发了具有宽温特性的高磁导率铁氧体TLD 材料,由于其常温初始磁导率ui为120000±30%),--20C时Hi≥9000,所以既可以作特 殊的高导材料用,如用于室外低温环境的脉冲变压器;也可以作普通的高导材料用,如抗 电磁干扰(EMI)噪声滤波器、宽带变压器、脉冲变压器、隔离变压器、电感器等。 2研制方案的确定 通常MnZn铁氧体的粉料制备有两种方法,既化学共沉法和氧化物法。因天通公司长 期以来大生产的材料都是氧化物法做出来的,为了适合天通公司大生产的需要,我们采用 氧化物法来研发宽温高磁导率MnZn铁氧体TLD材料。 3研制内容及工艺流程 项目主要研究内容是宽温高磁导率MnZn铁氧体材料的工艺制造技术,包括:原材料 的选定,配方的选择,制造工艺参数如混合、预烧、造粒、成品烧结等各工序参数的制定。 项目研究重点是:找出最佳配方、制定合理掺杂;试验出最佳终烧结时间和平衡氧分压。 TLD材料研制工艺流程如下: [团——臣田——口田——回 ——臣田——[圈一[困 1 39 4重点研制工艺的透视分析 材料的主配方是整个研究过程的关键所在,所以主配方的探索应该有一个合理的方法。 2000 在主配方的确定过程中,我们依据原来高导材料研发经验,首先做出在常温条件下uj=1 (1±30%)的普通高导材料,然后在此基础上不断对其进行合理的对比分析再调整,主要 是把材料的二峰位置控制在一个理想的范围内,使材料的低温ui达到其性能要求。要说明 的一点是,在整个试验过程中我们针对某项研究始终保持其它工艺条件不变。 图1la.T(1)中的三条曲线是我们试验过程中的一个对比例子,u.1是普通高导材料, 0C, 二峰大约在20℃,la.2是主配方在la.1的基础上进行调整后的结果,二峰大约在1 但ui值较低,再经过多次分析调整后得到如u.3曲线,从这条曲线上可以看出,材料的 二峰位置大约在0。C,而且一20℃时的磁导率值大有提高,几乎接近期望值9000。 图1高磁导率材料对比试验的u;-T曲线 图2高磁导率材料掺杂对比试验的u;.T曲线 图3保温时间对高导材料u;.T的影响 在整个试制过程中,我们还做了大量的掺杂试验,由于该材料的温度系数较常规高导 材料而言小得多,而C0203的添加可以使u.T曲线平坦化,但过量的C0203会导致二峰 向前移动大,还会导致磁导率大幅度下降。如图表u-T(2)所示,u-T一1曲线的材料掺 1 C0203量为o.0 wt%,从图2中不难看量出,材料掺C0203达到0.03wt%时二峰向前移动太 C0203量为0 大,低温时ui值大幅提高,而常温时却太低,已达不到材

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