AET_01_半导体器件解读.ppt

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AET_01_半导体器件解读

UGS较小时,导电沟道相当于电阻将D-S连接起来,UGS越大此电阻越小。 P N N G S D UDS UGS 1-* P N N G S D UDS UGS 当UDS不太大时,导电沟道在两个N区间是均匀的。 当UDS较大时,靠近D区的导电沟道变窄。 1-* P N N G S D UDS UGS 夹断后,即使UDS 继续增加,ID仍呈恒流特性。 ID UDS增加,UGD=VT 时,靠近D端的沟道被夹断,称为予夹断。 1-* 三、增强型N沟道MOS管的特性曲线 转移特性曲线 0 ID UGS VT 1-* 输出特性曲线 ID U DS 0 UGS0 1-* 四、耗尽型N沟道MOS管的特性曲线 耗尽型的MOS管UGS=0时就有导电沟道,加反向电压才能夹断。 转移特性曲线 0 ID UGS VT 1-* 输出特性曲线 ID U DS 0 UGS=0 UGS0 UGS0 1-* 1.4.3 场效应管类型与特征 列表对比见教材P49。 1-* 例1: ?=50, USC =12V, RB =70k?, RC =6k?, 当USB = -2V,2V,5V时,晶体管的静态工作点Q位于哪个区? IC UCE IB USC RB USB C B E RC UBE 1-* 解:由于 ?=50, USC =12V, RB =70k?, RC =6k? (1)当USB =-2V时: IC UCE IB USC RB USB C B E RC UBE IB=0 , IC=0 首先计算最大饱和电流IC : Q位于截止区 1-* 即IC ICmax (=2mA) , Q位于放大区。 IC UCE IB USC RB USB C B E RC UBE (2)当USB =2V时: 1-* (3)当USB =5V时: IC UCE IB USC RB USB C B E RC UBE Q 位于饱和区,此时IC 和IB 已不是 ? 倍的关系。 1-* 三、主要参数 前面的电路中,三极管的发射极是输入输出的公共点,称为共射接法,相应地还有共基、共集接法。 共射直流电流放大倍数: 工作于动态的三极管,真正的信号是叠加在直流上的交流信号。基极电流的变化量为?IB,相应的集电极电流变化为?IC,则交流电流放大倍数为: 1. 电流放大倍数和 ? 1-* 例如:UCE=6V时:IB = 40 ?A, IC =1.5 mA; IB = 60 ?A, IC =2.3 mA。 在以后的计算中,一般作近似处理:? = 1-* 2.集-基极反向截止电流ICBO ?A ICBO ICBO是集电结反偏由少子的漂移形成的反向电流,受温度的变化影响。 1-* B E C N N P ICBO ICEO= ? IBE+ICBO IBE ? IBE ICBO进入N区,形成IBE。 根据放大关系,由于IBE的存在,必有电流?IBE。 集电结反偏有ICBO 3. 集-射极反向截止电流ICEO ICEO受温度影响很大,当温度上升时,ICEO增加很快,所以IC也相应增加。三极管的温度特性较差。 1-* 4.集电极最大电流ICM 集电极电流IC上升会导致三极管的?值的下降,当?值下降到正常值的三分之二时的集电极电流即为ICM。 5.集-射极反向击穿电压 当集---射极之间的电压UCE超过一定的数值时,三极管就会被击穿。手册上给出的数值是25?C、基极开路时的击穿电压U(BR)CEO。 1-* 6. 集电极最大允许功耗PCM 集电极电流IC 流过三极管, 所发出的焦耳 热为: PC =ICUCE 必定导致结温 上升,所以PC 有限制。 PC?PCM IC UCE ICUCE=PCM ICM U(BR)CEO 安全工作区 1-* 场效应管与双极型晶体管不同,它是多子导电,且输入阻抗高、温度稳定性好。 结型场效应管JFET 绝缘栅型场效应管MOS 场效应管有两种: §1.4 场效应晶体管 1-* N 基底 :N型半导体 P P 两边是P区 G(栅极) S源极 D漏极 一、结构 1.4.1 结型场效应管: 导电沟道 1-* N P P G(栅极) S源极 D漏极 N沟道结型场效应管 D G S D G S 1-* P N N G(栅极) S源极 D漏极 P沟道结型场效应管 D G S D G S 1-* 二、工作原理(以P沟道为例) UDS=0V时 P G S D UDS UGS N N N N ID PN结反偏,UGS越大则耗尽区越宽,导电沟道越窄。 1-* P G S D UDS UGS N N ID UDS=0V时 N N UGS越大耗尽区越宽,沟道越窄,电阻越大。 但当UGS较小时,耗尽区宽度有限,存在导电沟道。DS间

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