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模拟电子的技术基本演示课件02—36讲义[剖析方法和基本电路].ppt

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模拟电子的技术基本演示课件02—36讲义[剖析方法和基本电路]

2.4 静态工作点稳定电路 作业2-3 P131: 2.13 2.5 共集电极及共基极放大电路 作业2-4 P132: 2.17 2.6 复合管 作业2-5 P135: 2.24 1、晶体管正常工作时的电流方向如图所示。 2、发现每个管子的电流的流向都很顺畅,并且能确定第2管脚的电流方向如图所示。 3、1和3管脚的电流是流出的,3管脚的电流是流入的,所以该复合管等效于PNP管子。1对应基极、3对应集电极、2对应发射极。 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. * * 所谓的稳定静态工作点Q,是指在环境温度变化时静态集电极电流IC和管压降VCE基本不变。 静态工作点很容易受到外界条件的影响而移动,甚至移到不合适的位置而使放大电路无法正常工作。 静态工作点不稳定因素很多,如电源电压变化、电路参数变化、管子老化、环境温度的变化等。 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. β:随温度的升高而增加,原因:温度升高,加快载流子的速度,基区复合减少,往集电区流的载流子增多。 VBEQ:随温度的升高而减少。 ICBO:随温度的升高而增加。对硅管,该变化很小,所以对静态工作点的影响没有上两个因素重要。但对大功率硅管不能忽略。对锗管该变化也很重要。 20℃ 40℃ Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 选择Rb1和Rb2,使I1IB,这时基极电位VB=Rb2VCC/(Rb2+Rb1)基本稳定。对硅管取 I1=(5~10)IB VB=(3~5)VBEQ Q点稳定原理:温度升高→ IC增加→ IE增加→VE上升 →VBE=VB-VE减小→IB自动减小 → IC减少→ 静态工作点基本稳定。 ⑴分压式偏置电路 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 利用二极管的反向特性进行温度补偿 (反向电流随温度的升高而增加) ⑵温度补偿电路 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 利用二极管的正向特性进行温度补偿 (结压降随温度的升高而减小) Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 放大电路中带入Re电阻能使静态工作点稳定,但电压增益减小。解决的方法是与电阻Re并联一个大电容,这个电容称为旁路电容。 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. Evaluat

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