大脑的外部形态分解.ppt

大脑的外部形态 长沙泰和医院神经外科 何承彪 大 脑 人的大脑高度发展，它包罩着间脑、覆盖在中脑和小脑的上面。 大脑主要包括左右大脑半球，由纵沟即半间沟将两半球分隔，在间裂的底部是连接两半球的宽厚的纤维束，即胼胝体，在大脑和小脑之间隔以大脑小脑裂。 每个大脑半球的表面被覆一层灰质，叫大脑皮质，皮质的深方是髓质。髓质中埋藏一些灰质核团，称为基底神经核。左右大脑半球内部的腔隙是侧脑室。 一、外部形态 每个大脑半球的外部形态，可以概括为 1、三个面 2、三个缘 3、四个极 4、六个叶 1.大脑半球的三个面 1、背外侧面 是大脑半球膨隆的凸面，此面与颅顶内侧面相平行。 2、内侧面 是位于半球间裂之间，两半球相对的一面，内侧面垂直且比较平坦。 3、底面 底面凹凸不平，与颅底内侧面相适应，其前部位于颅前窝及颅中窝，后部位于小脑幕的上方。 2.大脑半球的三个缘 1、背内侧缘 界于背外侧面与内侧面之间 2、腹外侧缘 位于背外侧面与底面之间，此缘有自后极水平向前约4cm处， 比较凹陷，称为枕前切迹。 3、腹内侧缘 位于内侧面与底面之间，但其界限不规则，可分为前后两部： 1）内眶缘：为腹内缘的前部，位于内侧面与眶之间。 2）内枕缘：为腹内缘的后部，位于内侧面与小脑幕面之间。 3.大脑半球的四个极 1、额极 是额叶的最前部 2、颞极 是颞叶的最前部 3、枕极 是枕叶的最后部 4、岛极 是岛叶的前端，相当于岛阈，隐藏在颞叶深方 4.大脑半球的六个叶 1、额叶 位于中央沟的前方及外侧裂的上方 2、颞叶 位于外侧裂的下方及顶枕裂与枕前切迹连线的前方 3、顶叶 位于中央沟的后方，外侧裂的上方，顶枕裂的前方 4、枕叶 在半球的内侧面上，此叶位于顶枕裂的后方，在半球的背外侧面上，位于顶枕裂上端与枕前切迹假想连线的后方。 5、岛叶 位于外侧裂的深方被岛盖所覆盖 6、边缘叶 在半球的内侧面可见位于胼胝体周围和侧脑室下角底壁的一圈弧形结构：隔区(包括胼胝体下回和终板旁回)、扣带回、海马旁回、海马和齿状回等，加上岛叶前部、颞极共同构成边缘叶。 二、主要的沟、裂 大脑外侧裂、 中央沟、 顶枕裂、 距状裂、 扣带沟、 侧副裂、 枕颞沟 1.大脑外侧裂 大脑外侧裂是大脑半球最深、最明显的一条裂。位于半球外侧面的中部，由颞极前方的大脑外 侧谷开始，向后外上方不远处分为三支：前支较短，行向前方，称水平支；升支几乎垂直向 上；后支最长，是外侧裂的延续，斜向后上方终于顶叶的缘上回。大脑外侧裂的深部，埋藏有 三角形的岛叶。额叶、颞叶和顶叶覆盖着岛叶的部分，分别称为额盖、颞盖和顶盖，合称为岛 盖。 2.中央沟、顶枕裂、距状裂 3.扣带沟、侧副裂、枕颞沟 额 叶的背外侧面 额叶的背外侧面 其后界为中央沟，下界为在脑外侧裂。额叶的背外侧面有三条主要的脑沟，分成四个脑回。中央沟前方有与其平行的中央前沟，该两沟之间为中央前回。在中央前沟前方有上、下两条与背内侧缘平行的脑沟，即额上沟与额下沟。额上沟以上为额上回。 额上、下沟之间为额中回。额下沟与大脑外侧裂之间为额下回。额下回又被大脑外侧裂的前支和升支分为三部分，即前支以下的部分为眶部；前支与升支之间为三角部；升支与中央沟之间为盖部。三角部和盖部合称为Broca回 额 叶的内侧面 2. 额叶的内侧面 以扣带沟与扣带回分界，后界以中央沟上端向下到扣带沟的连线为界。额叶内侧面前方大部分为额上回，又称为内侧额回。其后方以旁中央沟与旁中央小叶为界。旁中央小叶是扣带沟缘支和旁中央沟之间的部分。旁中央小叶被中央沟末端分为前大、后小两部分，是中央前、后回延伸到内侧面的部分。 额叶的底面 3. 额叶的底面 也叫额叶眶面。有一与内眶缘平行的直沟，称为嗅沟，此沟内容纳嗅球与嗅束。嗅沟将额叶的底面分为内、外侧两部分。嗅沟的内侧部，称为直回。嗅沟外侧部称为眶回。眶回又被“H”形沟分为四部：外侧部为眶外侧回，移行于额下回的眶部；前部称为眶前回，向额极移行于额中回；后部为眶后回，向后到岛阈，其外侧连于岛盖部；内侧部为眶内侧回，向前与额上回相连。 顶叶的背外侧面 在中央沟的后方，在大脑外侧裂后支的上方，顶枕裂上端至枕前切迹连线的前方。背外侧面有与中央沟平行的中央后沟，在两沟之间为中央后回。顶间沟始自中央后沟的上段，与背内侧缘平行向后，至顶枕裂上端的下方，转向下形成枕横沟。顶间沟把顶叶后部分为上、下两部，上部为顶上小叶，下部为顶下小叶。顶下小叶的前部围绕外侧裂后支末端的部分，称为缘上回。顶下