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蚀刻技术及工艺..讲述
木巷电讯配件有限公司 蚀刻工艺及异常分析 蚀刻: 蚀刻是将材料利用化学反应或物理撞击 作用而去除的技术(也即利用合适的化学溶液 腐蚀去除材质上未被光阻覆盖(感光膜)的 部分,达到一定的雕刻深度)。?? 特点: ★ 改变了机械加工金属零件方式; ★ 可对大到传统行业设备使用的大面积微孔滤网, 小到眼睛几乎很难以分辨的细微零件进行加工; ★ 生产过程无外力冲击、不变形、平整度好;生 产周期短、应变快、不需模具的设计、制造;产 品无毛刺、无凸起、两面一样光、一样平; ★ 按图红加工平面凹凸型的金属材料制品,如:文字、数字及复杂图型、图案。制造各种精密的,任意形状的通孔零件。 * 品保部 ★蚀刻定义 ★蚀刻原理 ★蚀刻用途 ★蚀刻分类 ★蚀刻常用介质 ★蚀刻工艺流程 ★蚀刻制程注意事项 蚀刻定义 蚀刻特点 蚀刻的原理: 通常所指蚀刻也称光化学蚀刻(photochemical etching),指通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区 域的保护摸去处,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶 解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。 蚀刻的原理 蚀刻的作用: 最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版, 也广泛地被使用于减轻重量 (Weight Reduction) 仪器镶板,铭牌及传统加工法难以加工之薄形工 件等之加工;经过不断改良和工艺设备发展,亦 可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件 精密蚀刻产品的加工,特别在半导体制程上,蚀 刻更是不可或缺的技术。 蚀刻的用途 蚀刻分类: 蚀刻技术可以分为湿式蚀刻(wet etching)和 干式蚀刻(dry etching)两类。 蚀刻类型 干性蚀刻: 所谓干性蚀刻乃是利用化学品(通常是盐酸)与所欲蚀刻之薄膜起化学反应,产生气体或可溶性生成物,达到图案定义之目的。在干蚀刻技术中,一班多采用电浆蚀刻与活性离子蚀刻。而所谓干蚀刻,则是利用干蚀刻机台产生电浆,将所欲蚀刻之薄膜反映产生气体由PUMP抽走,达到图案定义之目的。 蚀刻类型 湿性蚀刻: 最早的蚀刻技术是利用特定的溶液与薄膜间所进行的化学反应来去除薄膜未被光阻覆盖的部分,而达到蚀刻的目的,这种蚀刻方式也就是所谓的湿式蚀刻。因为湿式蚀刻是利用化学反应来进行薄膜的去除,而化学反应本身不具方向性,因此湿式蚀刻过程为等向性,一般而言此方式 不足以定义3微米以下的线宽 ,但对于3微米以上的线宽定义湿式蚀刻仍然为一可选择采用的技术。 蚀刻类型 蚀刻常用介质 ★ FeCl3:三氯化铁 ★ NaOH:氢氧化纳 FeCl3:三氯化铁因其工艺稳定,操作方便,价格便宜,因此为广大蚀刻加工企事业单位所采用;主要在印制电路、电子和金属精饰等工业中被广泛采用,一般用来蚀刻铜、铜合金、不锈钢、铁、锌及铝等。 三氯化铁蚀刻液适用于网印抗蚀印料、液体感光胶、干膜、镀金蚀层的印制板的蚀刻(不适用于镍、锡、锡铅合金等抗蚀层) ★蚀刻液的浓度一般是以蚀刻时间和蚀刻质量来确定蚀刻液的再生与更新。 蚀刻常用介质 NaOH:是一种常见的重要强碱。固体又被称为烧碱、火碱、片碱、苛性钠等,是一种白色固体,有强烈的腐蚀性,在空气中易潮解,且与空气中CO2二氧化碳起反应(因此要密封存放);除溶于水之外,氢氧化钠还易溶于乙醇、甘油;但不溶于乙醚、丙酮、液氨。其液体是一种无色,有涩味和滑腻感的液体。 蚀刻常用介质 来料前处理 涂 膜 烘 烤 曝 光 显 影 全检补漆 蚀 刻 脱 膜 全检包装 烘 干 蚀刻设备的改进, 主要体现: 1.在传送方式、喷淋方式, 目的是提高生产效率、蚀刻速度和蚀刻均匀性。 2. 喷淋杆或喷嘴的移动为了使溶液能全面地喷淋到板子表面每个部位, 并促使板面溶液加快流动, 是移动喷淋杆或喷嘴。 目前的水平传送喷淋式蚀刻设备的喷嘴与喷淋杆摆动的结构有多样不同。使得喷淋溶液不固定于一个位置, 就让喷嘴摆动。摆动方式有的是转动喷管摇摆喷嘴角度, 有的是平移喷管移动喷嘴位置, 也有水平旋转喷管而使喷嘴旋转喷液。喷嘴摆动方式不同, 目的是为提高蚀刻均匀性。 蚀刻工艺改进 涂膜 水处理净化剂 液体三氯化铁产品。 一、物理性质 外 观:红棕色液体、分子式:FeCl3 分子量:162.21 比 重:1.30~1.50g/cm3 二、产品用途: 三氯化铁在环保污水处理中用作净化絮凝剂;在饮用水处理中用作净水剂;电子行业中用作线路板蚀刻剂;轻工行业用作不锈钢制品的腐蚀;有机合成中用作二氯乙烷的催化剂;印染工业中用作靛蓝染料的氧化剂和印染媒染剂;染料工业用作中间体原料;在医药制药中用作催化的原料;在建筑混凝土中渗入其溶液后能增
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