研究哈茨木霉T23与几种病原菌对峙培养时相关基因的表达.doc

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研究哈茨木霉T23与几种病原菌对峙培养时相关基因的表达

研究哈茨木霉T23与几种病原菌对峙培养时相关基因的表达 通过哈茨木霉T23与大丽轮枝孢菌、腐皮镰刀菌等病原菌的对峙培养,采用差异表达基因的方法,寻找哈茨木霉T23与病原菌作用的关键基因,克隆抑病基因的序列,并进行功能验证 1材料 实验材料 哈茨木霉T23,大丽轮枝孢菌,腐皮镰刀菌等病原菌 1.2试剂及试剂的配置 2仪器设备 3操作步骤 3.1哈茨木霉的培养 木霉的培养 3.11 PD液体培养基的制备 去皮马铃薯200g,切成小块,加水煮沸30min,将滤液补足1000ml ,加葡萄糖20g,121摄氏度高温灭菌30min。 3.12 发酵液的制备 斜面中保存的菌种,接种前一周转移到平皿中,将5株活化的木霉的菌块接入到500ml装有100mlPD液体培养基的摇瓶,接入量为5个菌块。在28℃以下250rpm(转每分)的转速培养7d。 3.13 孢子悬浮液的制备 在木霉的培养管中加入5ml的无菌水,刮取孢子,倒出孢子悬浮液,用适量的无菌水稀释,用血球计数板记数,计算每毫升孢子悬浮液中的孢子数。 附:用血球记数板法测量孢子数,调配出5个不同浓度梯度,配用。 3.2哈茨木霉T23的筛选 3.3哈茨木霉T23与大丽轮枝孢菌,腐皮镰刀菌的对峙培养 不同温度下培养 木霉菌和病病菌分别 置不同温度下黑暗培养 72h 后, 用打孔器 ( 5mm) 沿 其菌落边缘打菌碟, 分别接种于 pda 平板中央, 25°c 黑暗培养7d, 逐日观察菌丝生长。 平皿对峙培养 各供试木霉菌和几种病原菌病菌,分别置于25°C黑暗条件下培养72h用打孔器 ( 5mm) 沿其菌落边缘打菌碟, 接种于 pda 平板上, 两者相距5mm 同时设只接木霉菌和病病菌的平板为对照, 每处理重复 3 次。分别于 10C 15C 25C 30C 35C黑暗条件下恒温培养, 逐日观察并记录木霉菌和病病菌的菌落相向半径。用十字交叉法测量供试菌株菌丝生长半径, 用下述公式计算抑制率 菌落半径 3.4RNA的提取 提取两组平行材料中的总RNA,此实验中需提取哈茨木霉RNA,采用上海生物工程公司代售的Trizol试剂(BBI, 加拿大)提取总RNA 3.41取两组哈茨木霉T23菌液各5mL置于10mL预冷离心管中 3.42在离心管中加入2 mL Trizol试剂,剧烈震荡离心管3-5次(注:禁用漩涡振荡器) 3.43室温静置10分钟 3.44 4℃ 12000 rpm 离心15 min,弃沉淀 3.45吸取上层水相,至另一新离心管中(注:千万不要吸取中间相) 3.46稀释水相一倍 3.47加入1/2 体积异丙醇,再加入1 /2体积的高盐溶液(1.2 mol/L NaCl),上下颠倒混匀,室温静置15 min 3.48 4℃ 12000 rpm离心15 min,弃上清 3.49收集DNA沉淀,用冰冷的75%乙醇轻轻漂洗,4℃ 8000 rpm离 心3 min,弃上清,重复两次 3.49.1于室温晾干10 min(注:不要过分干燥,否则RNA很难溶解) 3.49.2溶于300 μLDEPC处理的灭菌双蒸水15 min 3.49.3加入1/2 体积异丙醇,上下颠倒混匀,-70℃静置15 min 3.49.4重复3.49-3.49.1步骤 3.49.5 50 μL DEPC处理的灭菌双蒸水重新溶解RNA 3.5反转录 在逆转录酶的作用下,以Oligo dT18MN为锚定引物将RNA反转录成cDNA 3.51取两组哈茨木霉T23RNA液2ug至于离心管中,具体参照M-MLV Reverse Transcriptase (Promega, 美国)的说明书进行 3.52底物与引物混合变性,体系如下 总RNA2ug ,Oligo(dT)18 (0.5 μg/uL)1uL, DEPC处理的水3uL , Total volume 6uL 3.53短暂离心后,70°C水浴5min 3.54冰浴3 min 3.55向关内按照顺序加入以下试剂 试剂体积5×M-MLV buffer2 μLdNTP Mix (10 mmol/L)0.5 μLRibonuclear Inhibitor(50 U)0.5 μLDEPC处理的H2O1 μLTotal volume9 μL 3.56水浴37℃ 5 min。 3.57加入加1 μL(200 U)Reverse Trascriptase(M-MLV)。 3.58 42℃水浴60 min。 3.59 70℃水浴10 min。 3.59.1 冰浴5 min,然后-20℃储存

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