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电子技术基础[模拟部分]
电子技术基础(模拟部分);第一章 半导体二极管及其基本电路
学时数:6学时
第二章 半导体三极管及放大电路基础
学时数:8学时
第三章 场效应管放大电路
学时数:4学时
第四章 功率放大电路
学时数:4学时
第五章 反馈放大电路
学时数:10学时
第六章 直流稳压电源
学时数:4学时;第一章 半导体二极管及其基本电路;第一章 半导体二极管及其基本电路;空穴;第一章 半导体二极管及其基本电路;漂移运动:两种载流子(电子和空穴)在电场的作用下产生的运动。其运动产生的电流方向一致。
扩散运动:由于载流子浓度的差异,而形成浓度高的区域向浓度低的区域扩散,产生扩散运动。;2、PN结的单向导电性
(1)、外加正向电压;N;2004-3;(3)、PN结V-I特性的表达式;雪崩击穿:当反向电压足够高时(U6V)PN结中内电场较强,使参加漂移的载流子加速,与中性原子相碰,使之价电??受激发产生新的电子空穴对,又被加速,而形成连锁反应,使载流子剧增,反向电流骤增。齐纳击穿:对掺杂浓度高的半导体,PN结的耗尽层很薄,只要加入不大的反向电压(U4V),耗尽层可获得很大的场强,足以将价电子从共价键中拉出来,而获得更多的电子空穴对,使反向电流骤增。;O;作业:38页2.2.2 60页2.1.1
1.3 半导体极管
1.3.1半导体二极管的结构
类型:点接触型、面接触型和集成电路中的平面型
2AP1 2CP1
16mA、150MHz 400mA、3KHz ;1.3.2极管的 V-I特性
1、正向特性
Vth门坎电压(死区电压) 硅管0.5V 锗管0.1V
2、反向特性
3、反向击穿特性; (1) 势垒电容CF;2004-3;第一章 半导体二极管及其基本电路;O;例2.4.1 R=10K?,对于下列两种情况,求电路的ID和VD的值:(1)VDD=10V;
(2) VDD=1V.在每种情况下,应用理想模型、恒压降模型和折线型模型求解。;第一章 半导体二极管及其基本电路
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