光刻技术简介.ppt.ppt

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2017-04-27 发布于天津
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光刻技术简介及其应用举例;光刻的原理概述;利用光致抗蚀剂(或称光刻胶)感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点，将掩模板上的图形刻制到被加工表面上。 ;光刻胶;根据光刻胶的化学反应机理和显影原理，可将其分为正性胶和负性胶。;光刻的一般流程;底膜处理;涂胶;前烘;曝光;曝光光源选择;显影与坚膜;刻蚀;刻蚀-湿法刻蚀;刻蚀-干法刻蚀;去胶;光刻技术在PVDF压电薄膜电极制作中的应用;1：PVDF压电薄膜两侧的电极层的尺寸大小和形状与薄膜不匹配。 2：未经过处理的压电薄膜在电极两侧加上电压时，会产生放电现象。;光刻技术在PVDF压电薄膜电极制作中的应用;光刻技术在PVDF压电薄膜电极制作中的应用;光刻技术在PVDF压电薄膜电极制作中的应用;表一是用万用表测试保留的电极层及被腐蚀处的导电性。;谢谢大家