L13-太阳能电池探析.ppt

  1. 1、本文档共62页,可阅读全部内容。
  2. 2、有哪些信誉好的足球投注网站(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
13.1 太阳能电池的种类及应用 13.2 太阳能电池的原理和基本结构 13.3 描述太阳能电池的参数 13.4 影响太阳能电池转换效率的因素 13.5 提高太阳能电池转换效率的途径 13.6 高效太阳能电池的研究 13.7 大规模工业生产太阳能电池制造 ;太阳能电池的种类及应用;1.单晶硅太阳电池 [SINGLECRYSTAL];无机太阳能电池;太阳能电池的应用; 以单晶硅p-n结太阳能电池为例,介绍半导体太阳能电池的基本工作原理、特性及其制备过程。; 光生伏特效应; 可见,为使半导体光电器件能产生光生电动势,应该满足以下两个条件: 1、半导体材料对一定波长的入射光有足够大的光吸收系数?,即要求入射光子的能量h?≥Eg时,该入射光子能被半导体吸收且激发出光生非平衡的电子—空穴对。; 从下图可以看到,GaAs和非晶硅的吸收系数比单晶硅大得多,透入深度只有1μm左右,即几乎全部吸收入射光,所以这两种电池都可以做成薄膜,节省材料。;2、具有光伏结构,即有一个内建电场所对应的势垒区。势垒区的重要作用是分离两种不同电荷的光生非平衡载流子,产生一个与平衡pn结内建电场相反的光生电场,于是在p区和n区间建立了光生电动势(或称光生电压)。;P-Si 衬底;§13 太阳能电池 13.2 太阳能电池的原理和基本结构;§13 太阳能电池 13.2 太阳能电池的原理和基本结构;§13 太阳能电池 13.2 太阳能电池的原理和基本结构;§13 太阳能电池 13.2 太阳能电池的原理和基本结构;非晶硅太阳能电池;§13 太阳能电池 13.2 太阳能电池的原理和基本结构;§13 太阳能电池 13.2 太阳能电池的原理和基本结构; 在化合物半导体太阳能电池中,研究的最多的是III-V族的GaAs太阳能电池。由于GaAs的带隙比Si大,具有与太阳光谱相当一致的光谱特性,因而从光谱响应角度来说,它更适合于做太阳能电池。目前,在所有太阳能电池中, GaAs太阳能电池的转换效率最高。; GaAs太阳能电池包括单结型和多层异质结结构。更多的是采用多层异质结结构,并利用不同带隙的材料形成叠层电池。;描述太阳能电池??参数;开路电压; 将p-n结短路( V =0),因而IF =0,这时所得的电流为短路电流Isc 。; 在太阳能电池的伏安特性曲线上,任意工作点的输出功率等于该点所对应的矩形面积,其中只有一点的输出功率最大,该点称为最佳工作点,该点的电压和电流分别称为最佳工作电压Vop和最佳工作电流Iop 。; 填充因子定义为; 特性好的太阳能电池就是能获得较大输出功率的太阳能电池,也就是Voc,Isc和FF乘积较大的电池。对于有合适效率的电池,FF值应在0.70~0.85范围之内。; η表示入射的太阳光能有多少转换为有效电能。即:;影响太阳能电池转换效率的因素;Ⅰ 光生电流的光学损失;栅指电极遮光损失:栅指电极遮光面积在太阳能总面积中所占的百分比。对一般电池来说,约为4%-15%。;透射损失:如果太阳能电池的厚度不够大,某些入射的光子就有可能从电池背面穿出。这决定了半导体材料的最小厚度。间接带隙半导体要求材料的厚度比直接带隙的厚。;Ⅱ 光生少子的收集几率;Ⅲ 影响开路电压的因素;Ⅳ 辐照效应;提高太阳能电池的转换效率的途径;体内复合;表面复合 ;电极区复合; 基于以上提高电池转换效率的途径,派生了多种高效晶体硅太阳能电池。其中包括:; 这些电池的转换效率均高于20%,其中保持世界记录(24.7%)的单晶硅和多晶硅电池(19.8%)的转换效率均是由PERL电池实现的。;澳大利亚新南威尔斯大学设计和制造的PERL电池示意图; 目前这种电池技术是制造实验室高效太阳能电池的主要技术之一,24.7%的电池就是由此技术制造的。但是,这种电池的制造过程相当烦琐,其中涉及到好几道光刻工艺,所以不是一个低成本的生产工艺,很难将其应用于大规模工业生产。;清洗;表面腐蚀的目的: 切割后的硅片表面有一层10~20 μm厚的切割损坏层,在电池制备前必须去除。 表面腐蚀的方法:酸性腐蚀和碱性腐蚀 目前单晶硅的硅片主要使用的是碱性腐蚀的方法。碱性腐蚀常用的腐蚀剂为加热到80~90℃的20% ~30%的NaOH或KOH溶液。;单晶硅片清洗制绒工艺: 去损伤层: N

文档评论(0)

1112111 + 关注
实名认证
内容提供者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档