第二部分项目技术与产品实现-慧聪网B2B平台.doc

奥普达光电技术(深圳)有限公司 地址:深圳市福田区福华路151号公交大厦411室 电话:0755 ,传真:0755mb联系人: 张保红 卫岩平 PAGE  PAGE 14 本产品创新的 凹面全息光栅介绍 核心是在世界上首次解决了同时消除凹面光栅存在的象散和彗差两种像差的技术难题，技术水平达到国际先进水平。在产品的研究过程中，形成了数项专利技术，已经申请。 与产品相关的专利情况 1）“IV型消象差凹面全息光栅的制作方法” 发明专利 专利申请号：200610016609.3 2）“一种平面全息光栅制作中精密控制刻线密度的方法” 专利申请号：200310115844.2 公开号：1544994 ?技术背景 在真空紫外、特别是软X射线波段，所有物质对光辐射都有强烈的吸收，传统的平面光栅光谱仪由于引入了准直镜和成像物镜，所以存在由准直镜和成像物镜对光的吸收而引起的附加能量损失，严重影响光谱仪器的能量传输特性。而因为凹面光栅具有衍射和自聚焦的双重特性，在成像时不需要附加准直和成像光学系统即能形成谱线，从而避免了多余的光学系统对光能的吸收。 然而，传统的凹面光栅存在严重的像差，主要包括象散和彗差，在很大程度上降低了光栅光谱仪的谱线质量，影响仪器的 分辨本领。国际上目前只有法国的JobinYvon公司、美国的Spectra Physics公司等少数几个公司可以研制消象差凹面光栅，但他们研制的光栅仅仅解决了光栅的象散，而没有解决光栅的彗差。本产品研制的Ⅳ型消像差凹面全息光栅同时消除了上述两种相差。使用该型凹面全息光栅不仅可以消除光学系统的像差，还可以缩小光谱仪器的尺寸，减少组成的零部件数量，提高光谱仪器的成像质量、分辨本领和测试精度。 ?产品所依据的技术原理 本产品依据的主要技术原理：Namioka的凹面全息光栅像差理论和Fermat原理，以及光的相干理论,利用弯曲的光栅刻线所产生的负象散和负彗差来抵消由凹面光栅基底产生的正象散和正彗差。 根据光的相干理论，当两束由同一光源发出的平行单色光交汇时，在交汇的区域（称为干涉场）就会产生明暗相间的间隔均匀的干涉条纹。将涂有光刻胶的凹面光栅 基底放在干涉场中曝光，则干涉场中的干涉条纹就会转移到光栅基底上，再经一系列的工艺处理即可形成凹面全息光栅，光栅刻线在光栅中心切面上的投影是直线，这种光栅存在严重的象散和彗差。 为矫正这两种象差，就必须使光栅刻线在光栅中心切面上的投影产生适当的弯曲。这样就可得到成像质量较为理想的凹面全息光栅。 ?主要技术指标 刻线密度：1200线/mm 闪耀波长：250nm 波段范围：200~800nm 入射光臂：200mm 出射光臂：188mm 入射光臂与出射光臂夹角：61.6° ?质量标准类型 由于本项产品没有国家标准，暂时执行《凹面衍射光栅产品企业标准》《IV凹面衍射光栅产品企业标准》。 ?产品特点: 创新点1：采用新颖的曝光光路设计，同时消除了象散和彗差 创新点2：研制了“两束曝光光路夹角的精确控制装置”（专利申请中）和“两个光源到光栅中心距离的精确控制装置”（专利申请中），成功地解决了位置和角度定位精度的技术难题。 创新点3：研制出一种干涉叠代装置在线检测光栅常数，极大提高了光栅刻线密度精确控制技术 创新点4：采用特殊的新型光刻胶坚膜工艺，产生溶融状的光刻胶表面和冷却技术，解决了凹面光栅生产的最后一个工艺难题。 样品照片 全息光栅 凹面光栅 刻划光栅 全息光栅 Holographic Gratings 指标(Technology Index): 刻划面积(ruled area) ≤70*70ｍｍ 波长范围(Wavelength Range) 0.2-0.8μｍ 刻线密度(grooves Per mm) 1200L/ｍｍ-3600L/ｍｍ 衍射效率(Diffraction) 70% 应用(Application): 具有低杂散光、高衍射效率、高分辨率的优点,广泛应用于高精度的紫外-可见分光光度计,原子吸收分光光度计等光谱分析领域. (The product has the following strong points: low stray light, high diffraction efficiency and high resolving power. It was widely applied for the spectral analysis fields such as:UV-visible spectromete