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MA–1光学分析方法
电子材料分析 一、光谱分析法 原子光谱分析: 原子发射(OES) 、 原子吸收(AAS)、原子荧光(AFS) 分子光谱分析: 紫外-可见光光谱法(UV-Vis)、 红外光谱法(IR) 二、 X射线分析法 X线荧光光谱法XRF 电子探针微分析EPMA 三、 表面分析方法 俄歇电子能谱AES X线光电子能谱XPS 二次离子质谱SIMS 参考书: 1. 《原子光谱》 邱德仁,复旦大学出版社,2002年 2. 《分光光度分析》罗庆尧,科学出版社,1992年 3. 《X射线光谱分析》谢忠信,科学出版社,1982年 4. 《表面分析》华中一,复旦大学出版社,1987年 5. 《无机质谱概论》赵墨田主编,化学工业出版社,2006年 6. Modern Methods for Trace Element Determination C.Vandecasteele and C.B.Block 一、学这门课的意义 课程性质:应用 了解原理、方法 → 应用这些方法解决实际问题。 应用实例: 1. 产品研发: 原材料 → 材料 → 工艺 → 元器件 → 系统 → 应用 2. 工业生产: 几亿-几十亿晶体管数/人→ IC 光刻 20次 → 每次合格率99.9999% → 最终合格率(99.9999%)20 3. 论文制作:引言 → 实验 → 测量与分析 → 结论 二、如何进行分析 E.B → I.B → L.B → X.B → IR → Vis → UV → 光学分析法 什么是光学分析法: 作用: 透射/ 吸收/发射/反射/折射/散射/衍射/干涉/偏振等 一、电磁辐射的性质 1、什么是电磁辐射? 电磁辐射的范围:γ射线-无线电波 电磁辐射的性质 3.电磁辐射的性质 (1)粒子性:描述光的个体行为。 原子有不同的分立的能级, 发射或吸收一个光子: ΔE=hν,单位:J,eV ; 电磁辐射的强度 与光子数有关 1 mol 物质: E=hνNA 光学分析法的定量基础 电磁辐射 (2)波动性:主要描述光的集体行为, 如运动轨迹、传播方式 反射、折射、散射、干涉、衍射、偏振 4. 描述电磁辐射的参数: 周期 T(s); 频率υ: (s-1,Hz); 波长λ(nm、cm……);波数σ: (cm-1); 速度 v(光速 c); 折射率 二、光学分析法及其分类 1.光学分析法: 光谱法仪器组成 (二)单色器 :(仪器的光学系统) 作用:将复合光 分解为 单色光 组成:入射/出射狭缝,准直镜,色散器(棱镜或光栅) 1.棱镜—根据光的折射现象进行分光 2.光栅——根据光的干涉、衍射现象进行分光 光栅的色散原理 由光栅公式 d (sinα±sinθ)=Kλ 可见: (1)当 d 、α、K 相同时,波长λ不同,衍射角θ不同,因此混合光发生色散。 其色散线波长排布由入射线异侧向同侧方向增长。 (2)k=0时,光栅不起色散作用。 (3)K不同, λ不同,但 K λ相同, θ相同 谱线重叠, 需分离:用滤光片或棱镜预色散。 例:去除二级光谱对一级光谱重叠影响的滤光片 一级光谱 滤光片 185-380nm 空气吸收 360-660nm 无色光学玻璃 660-900nm 红色滤光片 光栅的闪耀特性 闪耀特性:将光栅刻痕刻成如下三角形的形状,光栅每个小工作面与光栅平面的夹角为θ,光栅工作面法线与光栅法线间的夹角也为θ ,当某一波长的衍射角等于入射角等于θ时,此波长强度极大,附近波长范围的强度也较大,这种使光衍射能量集中θ衍射角附近的现象就称为光栅的闪耀特性。工作面与光栅面之间的夹角θ ,称为该光栅的闪耀角。最大强度的波长就叫闪耀波长。闪耀波长附近强度较大的波长范
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