任意形状图形的灰度掩模图的设计系统研究_杜立群.pdf

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第 卷 第 期 纳 米 技 术 与 精 密 工 程 11 2 Vol. 11 No. 2 年 月 2013 3 Nanotechnology and Precision Engineering Mar. 2013 任意形状图形的灰度掩模图的设计系统研究 , 1 2 2 1 杜立群 , 冼宗明 , 王大志 (1. 大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室,大连 116024; 2. 大连理工大学微纳米技术及系统辽宁省重点实验室,大连 116024) 摘 要: 灰度掩 模技术是 制作三 维微纳 结构的有效方法之 一 , 灰度掩 模图设计 是 灰度掩 模 技术的 重要 组成部 分. 目 前 ,在微 机 械 器件 制 作 领域 中 ,通 常只给 出常 用规 则形状 三 维结构对 应 的灰 度 掩 模图 的设计 方法 ,对于任 意 形状 图 形 的灰度掩 模图设计 鲜有报道 . 本文 综合 灰度光 刻技术中的 编码原理和有 限元 法 中的铺 路 法 ,提出 了适合 于任 意形 状 图形 的灰度掩 模图设计算 法 ,解 决 了误 差 处理和 图形 闭合 两个 关键 问题 ,给 出 了算 法及图 形 的评价 方法 ,并 利 用 AutoCAD二 次开发 工具ObjectARX研究了 算 法 的程序 实现 , 构 建 了灰度掩 模图 的设计 系统. 利 用该 系统设计 了多幅 常规规 则形状 和任 意形状 灰度掩 模图 ,结 果表明 ,该 系统可以 高效地设计任 意 形状 图形 的灰 度 掩 模 . 研究 工作 为任 意形状 图形灰度掩 模图 的设计 提 供 了一种新 方法 ,可 以提 高灰度掩 模图 的设计效 率 ,为三 维微纳器 件 的制 作提 供 技 术积累 . 关键词:灰度掩模;设计算法;铺路法;任意形状图形;ObjectARX 中图分类号: 文献标志码: 文章编号: ( ) TP311 A 1672-6030 2013 02-0152-07 Gray-Scale Mask Design System of Arbitrary Shaped Pattern , 1 2 2 1 Du Liqun , Xian Zongming , Wang Dazhi (1. Key Laboratory for Precision and Non-Traditional Machining of Ministry of Education , Dalian University of Technology , Dalian 116024 , China ; 2. Key Laboratory for Micro/Nano Technology and System of

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