从还原副产物中提纯二氯二氢硅和三氯氢硅的新工艺.pdfVIP

2013年 l2月第 6期 从还原副产物中提纯二氯二氢硅和三氯氢硅的新工艺——杨永亮 姜利霞 严大洲等 ·53· 夺 ’争 ’÷ 孛‘ 。牛 。夺 ’夺 ’ ． 3新能源 ； ‘ ． 夺 ．寺 ．÷ ．争 ．+ ．々 ．夺 ． 从还 原副产物 中提纯二氯二氢硅和三氯氢硅 的新工艺 杨永亮 姜利霞 严大洲 肖荣晖 (中国恩菲工程技术有限公司，北京 100038) [摘 要] 针对二氯二氢硅对多晶硅生长过程中的促进作用 ，介绍 了一种从还原副产物 中提纯二氯二氢硅和三氯 氢硅混合物 的新工艺 。对 比了新工艺和常规工艺的技术指标 ，通过生产试验和分析 ，验证 了新工艺具有简化工艺、 降低投资和节能降耗 的先进性 。 [关键词] 多晶硅 ；还原副产物 ；二氯二氢硅 ；三氯氢硅 [中图分类号]TN304 [文献标识码]A [文章编号]1008—5122(2013)06—0053—04 A New SeparationTechnologyofDichIorosilaneandTrichlorosilane from Reduction ofBy-products YANG Yong—liang，JIANG Li·xia，YAN Da—zhou，XIA0 Rong—hui Abstract：BasedonadvancementofdichlorosilaneinCVD process，A new separationtechnologyispro— posed，whichcanobtainthemixtureofdiehlorosilaneandtrichlorosilanefrom thedistillationofreduction 0fby—products．Thecomparedtechnologicalparameterswascomparedwithconventionalprocessaccord— ingtotheproducttestandanalysis．Simplifyingtechnology，reducinginvestmentandenergyconsumption havebeen，which showsthatthenew separationprocesshaveagreatadvantage． Keywords：polysilicon；reductionofby—products；dichIorosilane；trichlorosilane 氢硅在还原过程中抑制三氯氢硅岐化反应 的特点 ， U 日J『舌 减少三氯氢硅的消耗，提高三氯氢硅一次利用率 ，减 改 良西门子法生产多晶硅工艺 中… ，每生产 1t 少副产物 四氯化硅 的产生量 ；这种处理工艺 既解决 多晶硅会产生 1．0～1．6t二氯二氢硅。二氯二氢硅 了二氯二氢硅的处理 问题 ，又能加快还原过程中硅 具有沸点低 、易燃 、易爆 的性质 ，难处理 ，出路少 ；不 棒的生长速度 ，大大降低还原 电耗 ，同时还能够改善 仅在安全上 ，而且在环保上带来 了诸多问题 ，二氯二 多晶硅表观质量 。 氢硅 已经成为多晶硅企业规模化生产 、高效化生产 多晶硅的超高纯度要求精馏产品二氯二氢硅和 的技术瓶颈。 三氯氢硅 的物料杂质含量达到 ppta级别 (10 )， 目前，多晶硅厂是将精馏提纯产品二氯二氢硅 纯度达到9个 “9”，这一方面增加 了二氯二氢硅和 和三氯