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V含量对TaVCN复合膜微结构、力学性能和摩擦磨损性能的影响

学兔兔 第2O卷第1期 粉末冶金材料科学与工程 2015年2月 Vbl 20NO.1 Materials Science and Engineering of Powder Metallurgy Feb.2015 V含量对TaVCN复合膜微结构、 力学性能和摩擦磨损性能的影响 喻利花,黄 婷,许俊华 (江苏科技大学 材料科学与工程学院,镇江 212003) 摘 要:采用多靶磁控溅射技术,制备一系列不同V含量的TaVCN复合膜。利用x射线衍射仪、纳米压痕仪和 高温摩擦磨损仪研究该复合膜的微结构、力学性能和摩擦磨损性能。结果表明,TaVCN复合膜为面心立方和底 心斜方的双相结构。随v含量增加,复合膜的硬度先升高后降低,当v原子分数为26.85%时,复合膜的硬度达 到最大值,为31.7 GPa。室温下随V含量增加,复合膜的摩擦因数和磨损率均先减小后增大,V原子分数为32.60% 时,摩擦因数达到最小值,为0-213;v原子分数为26.85%时,磨损率达到最小值,为2.1×10一 lnin /N。随温度 升高,复合膜的摩擦因数逐渐减小,磨损率逐渐增大。并对不同温度下TaVCN和TaCN复合膜的摩擦磨损性能 进行了讨论。 关键词:TaVCN复合膜;微结构;力学性能;摩擦磨损性能 中图分类号:TG174.44 文献标识码:A 文章编号:1673—0224(2015)1—126—07 Effect of vanadium content on microstructure,mechanical and tribological properties of TaVCN composite films YU Li—hua,HUANG Ting,XU Jun—hua (School of Material Science and Engineering,Jiangsu University of Science and Technology,Zhenjiang 2 12003,China) Abstract:TaVCN Nano-composite films with different vanadium contents were synthesized by multi-target magnetron sputtering technique.The microstructure,mechanical and tribological properties of TaVCN films were investigated by X—ray diffraction,nano—indentation,high—temperature ball—on—disc tribo—meter technology.The results show that TaVCN films exhibite the fcc crystal structure and base—centered orthor hombic structure.The hardness first increases and then decreases with increasing vanadium content in the films and the highest value is 3 1.7 GPa.at 26.85%(atomic fraction)V

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